МІНІСТЕРСТВО ОСВІТИ І НАУКИ УКРАЇНИ
ДЕРЖАВНИЙ ВИЩИЙ НАВЧАЛЬНИЙ ЗАКЛАД
Фізичний ФАКУЛЬТЕТ
КАФЕДРА ТВЕРДОТІЛЬНОЇ ЕЛЕКТРОНІКИ
Фізико-технологічні основи фотолітографії
Курсова робота
ЗМІСТ
ВСТУП
1. МАТЕРІАЛИ ФОТОШАБЛОНІВ - НОСІЇ ЗОБРАЖЕННЯ
1.1 Властивості фотоматеріалів
1.2 Срібловмісні фотоматеріалі
1.3 Діазоплівкі
1.4 Фотоплівкі для виготовлення фотошаблонів
2. . МЕТОДИ ФОТОЛІТОГРАФІЇ
2.1 "Подвійна" фотолітографія
2.2 "Подвійні" фотошаблон
2.3 Фотолітографія з підшаром
2.4 "вибухово" фотолітографія
2.5 Негативно-позитивна фотолітографія
3. ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ ЯКОСТІ ФОТОЛІТОГРАФІЇ
3.1 Порушення якості фотолітографії
3.2 Методи Боротьба з причинами Порушення якості фотолітографії
ВИСНОВОК
ЛІТЕРАТУРА
ВСТУП
У даній курсовій работе ми розглянемо основні принципи процеса фотолітографії та матеріали Які при цьом Використовують. Фотолітографія на сьогоднішній день займає ВАЖЛИВО місце у віготовленні інтегральніх схем для мікроелектронікі. Основними факторами Які дозволяють нам використовуват цею метод Формування малюнку є можлівість создания ЕЛЕМЕНТІВ будь-якої конфігурації, висока відтворюваність Розмірів и їхніх розташувань, групова обробка великого числа переходів.
Фотолітографія Неможливо без Використання фотошаблонів (трафаретів). Фотошаблон виготовляють на Основі срібловмісніх та діазоплівок. Головна відмінність между ними це склад кулі Речовини Який реагує на опромінення и змінює свою структуру. Такоже ВАЖЛИВО компонентом фотолітографії є ​​фоторезист. У залежності від задачі, якові ставити топологія мікросхеми, Використовують позитивний або негативний фоторезист. Позитивний характерізується тім, что при проявленні проекспонованого Резісто освітлені місця залішаються світлімі, а неосвітлені - темними. Негативний фоторезист, навпаки, експоновані місця залішає темними, а неекспоновані - світлімі. br/>
1. МАТЕРІАЛИ ФОТОШАБЛОНІВ - НОСІЇ ЗОБРАЖЕННЯ
Фотолітографія - це сукупність фотохімічніх процесів, среди якіх можна віділіті три основні Етап: Формування на поверхні матеріалу щару фоторезистом, передавання зображення з шаблоном на цею куля, Формування конфігурації ЕЛЕМЕНТІВ прістроїв помощью маски з фоторезисту [1].
[2] Які б Процеси друку НЕ вікорістовуваліся, ВСІ смороду почінаються з фотографічного зображення майбутнього малюнки - фотошаблон, в нашому випадка - Із зображення топології схеми Зі всіма елементами друкарська монтажу: провіднікамі, контактними майданчиками для паяних, для отворів, екранах, Друкарські роз'єми, елєменти електрічної схеми и так далі. Вікорістовуючі фотошаблон отримуються масочного зображення на ситі - сітчастій трафарет для трафаретного друку, рельєфне зображення фоторезиста на плоскій підставі для формуванні малюнки субтрактівнимі або адитивний методом, рельєфні форми для офсетного друку Фарб або для флексіграфії.
Зі всієї різноманітності фотопроцесів в технічному (Не художньому) їх застосуванні ВСТАНОВИВ певні Традиції, основна спрямованість якіх - отріматі штрихових (без напівтонів) зображення Великої щільності и Великої контрастності. Матеріали для фотошаблонів повінні Володіти в Першу Черга високим градієнтом оптічної щільності, скроню зносостійкістю, что дозволяє багатая разів використовуват їх у процесах Фотодрук І, что Дуже ВАЖЛИВО, скроню розмірною стійкістю.
1.1 Загальні Властивості фотоматеріалів
Фотоматеріалі - світлочутліві матеріали, прізначені для Отримання фотографічніх збережений. Розрізняють галогеносрібні фотоматеріалі, в якіх світлочутлівім елементом є галогенід срібла (AgHal), и несрібні (світлочутлівій елемент - з'єднання заліза, хрому, СОЛІ діазонію и ін.
Фотоматеріалі для фотошаблонів по Загальній класіфікації фотоматеріалів віділяються таким чином:
В· за призначеня - мікрофільмування;
В· по відтворенню кольору об'єкту зйомки - чорно-білі монохроматічні (З однотонними Забарвлення збережений);
В· за способом! застосування - негатівні, Позитивні, Такі, что обертаються;
В· по вигляд підкладкі - на гнучкій полімерній Основі, на жорсткій Основі (фотопластиной, найчастіше з скла)
В· за форматом - лістові, рулонні;
В· по сенсітометрічніх характеристиках: загальна и ефективна світлочутлівість, коефіцієнт контрастності, фотографічна широта, оптичні щільність вуалі, максимальна оптичні щільність зображення и ін.
• по структурнорізкістнім характеристиках: Роздільна здатність, середньоквадратічна гранулярність.
В· за фізико-механічнім властівостям: розмірна стійкість в умів Зміни температурами и вологості, термостійкість, механічна Міцність шарів, вологоємкість, скручуваність.
<...
