в інверсне стан називається накачуванням підсилює середовища. У твердотільних лазерах вона здійснюється за рахунок опромінення потужними газорозрядними лампами-спалахами, сфокусованим сонячним випромінюванням (так звана оптична накачування) і випромінюванням інших лазерів (зокрема, напівпровідникових). При цьому можлива робота тільки в імпульсному режимі, оскільки потрібні дуже великі щільності енергії накачування, викликають при тривалому впливі сильний розігрів і руйнування стрижня робочої речовини. У газових і рідинних лазерах використовується накачування електричним розрядом. Такі лазери працюють в безперервному режимі. Накачування хімічних лазерів відбувається за допомогою протікання в їх активному середовищі хімічних реакцій. При цьому інверсія населеностей виникає або безпосередньо у продуктів реакції, або у спеціально введених домішок з відповідною структурою енергетичних рівнів. Накачування напівпровідникових лазерів відбувається під дією сильного прямого струму через pn перехід, а також пучком електронів. Існують і інші методи накачування (газодинамічні, які полягають в різкому охолодженні попередньо нагрітих газів; фотодисоціація, окремий випадок хімічної накачування та ін.)
Нове в конструюванні лазерів
Рентгенівський лазер або лазер на вільних електронах XFEL (англ. Х-Ray Free Electron Laser) - один з багатьох перспективних лазерів. На відміну від газових, рідинних або лазерів твердого тіла, де електрони збуджуються в пов'язаних атомних або молекулярних станах, у XFEL джерелом випромінювання є пучок вільних електронів, проходить крізь ряд розташованих спеціальним чином магнітів - ондулятор (Вігглер), що змушує пучок рухатися по синусоїдальної траєкторії, втрачаючи енергію, яка перетвориться в потік фотонів. Лазерний промінь, як і в інших лазерах, збирається і посилюється системою дзеркал, встановлених на кінцях вігглера. У результаті виробляється м'яке рентгенівське випромінювання. Міняючи енергію електронного пучка, а також параметри вігглера (силу магнітного поля і відстань між магнітами), можна в широких межах змінювати частоту лазерного випромінювання, що виробляється XFEL. Це головна відмінність XFEL від лазерів інших систем. Випромінювання, що отримується за допомогою XFEL, застосовується для вивчення нанометрових структур. Є досвід отримання зображень частинок розміром всього 100 нанометрів. Цей результат був досягнутий за допомогою рентгенівської мікроскопії з роздільною здатністю близько 5 нм. br/>В
Отримання рентгенівських лазерних променів
У 2009-му році в Національній Лабораторії ім. Лоуренса Лівенмора (США) були завершені роботи по створенню самого великого лазера в світі лазерного комплексу імітації ядерних випробувань (National Ignition Facility, NIF). Ця установка здатна сфокусувати 192 надпотужних окремих лазерних пучка, діаметром близько 40 см кожен, в точку мініатюрної водневої капсули (0.5 мм в діаметрі), що зн...
