p> Потужність дугових плазматронов 10 2 -10 7 Вт; температура струменя на зрізі сопла 3000-25000 К; швидкість витікання струменя 1-10 4 м/сек; промислове ккд 50-90%; ресурс роботи (визначається ерозією електродів) досягає кілька сотень год, в якості плазмообразующих речовин використовують повітря, N2, Ar, H 2 , NH 4 , O 2 , H 2 O, рідкі та тверді вуглеводні, метали, пластмаси. p> Високочастотний плазматрон включає: електромагнітну котушку-індуктор або електроди, підключені до джерела високочастотної енергії, розрядну камеру, вузол введення плазмообразующего речовини. Розрізняють індукційні, ємнісні, факельні плазмотрони, плазматрони на коронному розряді і з короною високочастотної, а також надвисокочастотні (НВЧ) плазматрони (рис. 2). Найбільшого поширення в техніці отримали індукційні ВЧ плазматрони, в яких плазмообразующий газ нагрівається вихровими струмами. Т. к. індукційний високочастотний розряд є безелектродним, ці плазматрони використовують для нагріву активних газів (O 2 , Cl 2 , повітря тощо), парів агресивних речовин (хлоридів, фторидів та ін), а також інертних газів, якщо до плазмової струмені пред'являються високі вимоги по чистоті. За допомогою індукційних плазматронов отримують тонкодисперсні і особливо чисті порошкові матеріали на основі нітридів, боридів, карбідів і ін хімічних сполук. У плазмохімічних процесах обсяг розрядної камери таких плазматронов може бути поєднаний з реакційною зоною. Потужність плазматрона досягає 1 МВт, температура в центрі розрядної камери і на початковій ділянці плазмового струменя ~ 10 4 К, швидкість витікання плазми 0-10 3 м/сек, частоти - від декількох десятків тис. Гц до десятків МГц, промислове ккд 50-80%, ресурс роботи до 3000 ч. У СВЧ плазматрона робочі частоти складають тисячі і десятки тис. МГц; в якості живильних їх генераторів застосовуються магнетрони. ВЧ плазматрони всіх типів, крім індукційних, застосовуються (70-і рр.. 20 в.) головним чином в лабораторній практиці. У ВЧ плазматрона, як і в дугових, часто використовують газову В«закруткуВ», ізолюючу розряд від стінок камери. Це дозволяє виготовляти камери ВЧ плазматрона з матеріалів з низькою термостійкістю (Наприклад, із звичайного або органічного скла). br/>В
Рис. 2. Схеми високочастотних плазматронов: а - індукційний, б ємнісний; в - факельний; г - Надвисокочастотний; 1 - джерело електроживлення; 2 - розряд, 3 - плазмова струмінь; 4 - індуктор; 5 - розрядна камера; 6 - електрод; 7 - хвилевід
Для пуску плазматрона, тобто порушення у ньому розряду, застосовують: замикання електродів, підпал допоміжного дугового розряду, високовольтний пробій міжелектродного проміжку, інжекцію в розрядну камеру плазми та ін способи. Основні тенденції розвитку плазматронов: розробка спеціалізованих плазматронов і плазмових реакторів для металургійної, хімічної промисловостей, підвище...
