. [1]
Це узгоджується з результатами, отриманими методом Оже-електронної спектроскопії. У цій же області хвильових чисел може спостерігатися також смуга поглинання груп Si-CH 3 (1 260 см - 1), проте утворення таких груп у процесі осадження менш імовірно, ніж зв'язків CN, оскільки вуглець в Полиимид міцно пов'язаний в бензольному кільці і імідних циклах.
Таким чином, методом Оже-електронної спектроскопії показано, що розподілі концентрацій основних елементів за обсягом шару нітриду кремнію, обложеного як на поверхню монокристалічного кремнію, так і полиимида порівняно однорідне. Однак, в шарі, обложеному на поверхню полиимида, концентрації атомів кисню та азоту поблизу кордону розділу дещо більше порівняно з обсягом. Зростання концентрації азоту на межі розділу, обумовлене його адсорбцією або хімічною щепленням до активних центрів на поверхні полиимида підтверджено даними ІЧ - спектроскопії.
3.2 Вплив підкладки на морфологію обложених верств Інгріда кремнію
Вплив підкладки на морфологію поверхні шарів нітриду кремнію досліджували методом СЗМ. Зразками дня дослідження служили шари нітриду кремнію товщиною 300 нм, обложені при співвідношенні реакційних газів моносилан/азот, рівному 0,69 на підкладках монокристалічного кремнію, на алюмінієвому і поліамідних покриттях на кремнієвихпідкладках.
При дослідженні морфології поверхні нітриду кремнію визначали наступні параметри шорсткості: R а - середнє арифметичне абсолютних значень відхилень профілю від середньої лінії в межах базової довжини; R ms -среднеквадратіческое значень відхилень профілю від середньої лінії в межах базової довжини; R max - відстань між лінією виступів і лінією заглиблень (найбільшим піком і найбільшою западиною на базовій лінії); R z - висота нерівностей профілю по десяти точках. На рис. 5 представлені типові скани поверхні досліджених зразків нітриду кремнію. Параметри шорсткості вихідних поверхонь підкладок і обложених на них шарів нітриду кремнію узагальнені в таблиці 1.
З отриманих даних випливає, що шорсткість поверхні осаждаемого шару нітриду кремнію в значній мірі визначається вихідною шорсткістю підкладки. Так, при осадженні на поверхню полиимида з вихідним значенням R а, рівним 0,51, отримували шари зі значенням R а рівним 0,74, а осадження на поверхні монокрісталлічсского кремнію й алюмінію про великими вихідними значеннями R а (0,78 нм і 1 , 71 нм) призводить до отримання шарів з великими значеннями R а, рівними 1,44 нм і 8,43 нм відповідно.
Поверхность шару нітриду кремнію, обложеного на Полиимид, однорідна і не містить будь-яких включень, виступів і западин і практично ідентична вихідної поверхні полиимида, про що свідчать параметри R z. і R max, величини яких близькі до відповідних величинам вихідної поверхні полиимида (див. табл. 1). Шари, обложені на монокристалічний кремній і алюміній, навпаки, характеризуються наявністю на їх поверхнях виступів, характеристичні розміри яких порівнянні з товщинами загрожених покриттів і визначаються параметром R max, величина якого становить 54,33 нм для шару, обложеного на поверхню монокристалічного кремнію, і 92 , 05 нм для шару, обложеного на поверхню алюмінію.
а) б)
в)
Рис. 5. Скани, отримані методом СЗМ, поверхні нітриду кремнію (6,6 мкм х 6,6 мкм), обложеного на поверхні: полиимида - а; монокристалічного кремнію - б; алюмінію - в. [1]
Таблиця 1.
Параметри шорсткості поверхонь вихідних підкладок (у чисельнику) і обложених на них шарів нітриду кремнію (в знаменнику) [1]
Процес утворення виступів на поверхні шарів нітриду кремнію, обложених на поверхню монокристалічного кремнію й алюмінію, не пов'язаний з утворенням кластерів в газовій фазі, оскільки всі образні були отримані в одному процесі осадження. Найімовірніше, він пов'язаний з процесом поверхневого агрегування структурних одиниць осаждаемого нітриду кремнію.
Висновок
У роботі були розглянуті різні методи отримання тонких плівок нітриду кремнію, а саме:
· Пряме азотування кремнію;
· Процеси осадження з газової фази;
· Плазмохимическое осадження і реактивне розпорошення.
Так само розглянута надмолекулярна і молекулярна структура і вплив підкладки на склад, структуру і морфологію загрожених шарів нітриду кремнію.
Що стосується синтезу, тонких плівок, у висновку можна зазначити, що найпоширенішим методом є метод хімічного осадження нітриду кремнію з газової фази. Це обумовлено простотою і легкістю процесу, по порівнянн...
