МІНІСТЕРСТВО ОСВІТИ І НАУКИ РОСІЙСЬКОЇ ФЕДЕРАЦІЇ
Федеральне державне бюджетне освітня установа
вищої професійної освіти
«Кубанського державного університету»
(ФГБОУ ВПО «КубГУ»)
Фізико-технічний факультет
Кафедра оптоелектроніки
Курсова робота
Магнетронний метод отримання тонких плівок на поверхні стекол
Роботу виконав Демахін Антон Сергійович
Спеціальність 010801 - Радіофізика та електроніка
Науковий керівник
канд. техн. наук, професор В.А. Нікітін
Краснодар 2013
Реферат
Курсова робота 11 рис., 1 таблиця, 8 джерел.
термовакуумних РОЗПИЛЕННЯ, катодного і Тріодної РОЗПИЛЕННЯ, реактивного розпилювання, магнетронного розпилення, високочастотні РОЗПИЛЕННЯ, ЛАЗЕРНОЕ РОЗПИЛЕННЯ, епітаксії
Об'єктом розробки курсової роботи є пристрій магнетронного нанесення тонких плівок на поверхні стекол.
Метою роботи є розробка та виготовлення пристрою магнетронного отримання тонких плівок і пробне нанесення металевих плівок на скляні підкладки.
В результаті виконання курсової роботи складений огляд отримання тонких плівок та осадження їх на підкладки. Детально викладено методи, що застосовуються при розпиленні і осадженні тонких плівок, а також епітаксіальні методи отримання плівок. Розглянуто переваги і недоліки кожного методу. Розроблено та сконструйовано пристрій магнетронного отримання тонких плівок. Вироблено пробне нанесення металевих плівок на скляні підкладки.
Введення
Один із сучасних способів модифікацій виробів машинобудування та приладобудування - зменшення геометричних розмірів їх елементів. Багато хто з них включають в себе тонкоплівкові покриття, характеристики яких можна міняти, варіюючи їх товщину. За функціональним призначенням такі покриття пов'язані практично з усіма розділами фізики: механікою, електрикою, магнетизмом, оптикою, а в якості матеріалів для них використовується більшість елементів Періодичної системи [1].
У галузях промисловості, які виробляють електронні, у тому числі мікроелектронні пристрої, використовують різноманітні технологічні процеси, в яких вихідні матеріали і напівфабрикати перетворюються в складні вироби, які виконують різні радіо-, опто- або акустоелектричні функції. При виготовленні всіх видів напівпровідникових приладів та ІМС в тому чи іншому обсязі використовується технологічний процес нанесення тонких плівок у вакуумі - тонкоплівкова технологія.
У даній роботі представлені основні методи отримання тонких плівок, їх схеми роботи, а так само достоїнства і недоліки цих методів.
Метою роботи є створення огляду по методам отримання тонких плівок на поверхні стекол.
1. Фізичні вакуумні методи отримання тонких плівок
Фізичні методи осадження різних матеріалів добре відомі і досить докладно обговорюються в науковій літературі. Можна сказати, що всі ці технології можливі для отримання оксидних плівок. Нижче наведено короткий огляд цих методів одержання плівок у вакуумі.
. 1 термовакуумних напилення
термовакуумних метод отримання тонких плівок заснований на нагріванні у вакуумі речовини до його активного випаровування і конденсації випаровування атомів на поверхні підкладки. До переваг методу осадження тонких плівок термічним випаровуванням відносяться висока чистота осаждаемого матеріалу (процес проводиться при високому і надвисокому вакуумі), універсальність (наносять плівки металів, сплавів, напівпровідників, діелектриків) і відносна простота реалізації. Обмеженнями методу є нерегульована швидкість осадження, низька, непостійна і нерегульована енергія загрожених частинок.
Суть методу термовакуумного напилення можна пояснити за допомогою спрощеної схеми установки, представленої на малюнку 1.
Малюнок 1 - Схема установки термовакуумного випаровування
Речовина, підмет напиленню, поміщають в пристрій нагріву (випарник) 1, де воно при досить високій температурі інтенсивно випаровується. У вакуумі, який створюється всередині камери спеціальними насосами, молекули випаруваної речовини вільно і швидко поширюються в навколишній простір, досягаючи, зокрема, поверхні підкладки 2. Якщо температура підкладки не перевищує критичного значення, відбувається конденсація речовини на підкладці, тобто ...
