p align="justify"> 1. Алфьоров Ж.І., Асєєв А.Л., Талонів С.В., Копйов П.С., Панов В.І., Полторацький Е.А., Сібсльдін Н.Н, Суріс Р.А. Наноматеріали та нанотехнологій//микросистемность техніка, 2003. №8. С. 3-13.
. Shmaenok L.A. et al. Novel instrumentation for in- and out of band metrology of EUVL sources.- Proceedings of 2nd International EUV-Symposium, Belgium, 2003.
3. Гапонов С.В. Роботи в галузі проекційної EUV- літографії в рамках російської програми.- Матеріали симпозіуму «Нанофізика та наноелектроніка», 2005. - Нижній Новгород: ІФМ РАН, 2 005, т.1.
. Chkhalo N.I. et al. Manufacturing and investigation of objective lens for ultrahigh resolution lithography facilities.- Proc.SPIE, 2008, v.7025.
. Bibishkin, M. S. et al. Multilayer Zr/Si filters for EUV lithography and for radiation source metrology.- Proc. SPIE, 2008, v.7025.
