ня стабілізуючих і фокусуючих котушок і інші джерела. Джерело живлення дуги має постійне напруга холостого ходу 80-100 В, робоча напруга 25-40 В при робочому струмі 50-200 а. Джерело має крутопадаючих навантажувальну характеристику.
Джерело опорного напруги має жорстку навантажувальну характеристику. Дає регульоване напруга постійного струму від 0 до 300 В при струмі до 10 А. Оснащений електронним пристроєм захисту від короткого замикання, як захист від мікродуговим розрядів на виробі. Джерело живлення іонного очищення дає постійне регульоване напруга від 100 до 2000 В при струмі до 20 А, має жорстку навантажувальну характеристику, забезпечений системою захисту від коротких замикань і переривання мікродуговим розрядів.
Система вимірювання вакууму складається зазвичай з термопарного для низького вакууму і іонізованого для високого вакууму приладів. Термопарного частина вакуумера вимірює вакуум до 10-2 мм. рт. ст. і не боїться напуску системи повітрям. Низький вакуум зазвичай вимірюється на вході вакуумної магістралі. Іонізаційна частина вакуумметра вимірює вакуум від 10-2 до 10-7 мм. рт. ст. Високий вакуум вимірюється в камері установки та вимірювальна система пов'язана з блокуваннями по вакууму.
Система охолодження і прогріву камери призначені для відводу тепла при роботі установки в режимі конденсації покриття і прогріву камери перед її відкриванням для виключення конденсації на стінках камери вологи. Система складається з трубопроводів, електроклапанів, реле протоки та підігріву води.
Система контролю температури виробів включає оглядове вікно зі шторкою, що розділяє вакуум камери і навколишнє середовище.
Система автоматики і блокувань призначена для виключення неправильних дій персоналу при роботі на установці. Блокування запобігають утворенню аварійної ситуації, дотримання умов техніки безпеки, відключення установок в аварійних ситуаціях. Так, наприклад, блокування не дозволяють оператору відкрити високовакуумний затвор при наявності в камері атмосферного тиску, або подати на виріб високу напругу при відкритих дверцятах вакуумної камери.
Установка забезпечена контроль- вимірювальними приладами, за показами яких судять про режим її роботи. Контролюється струм дуги, ток фокусування і стабілізації, опорна напруга. Деякі установки забезпечуються блоками автоматичного набору вакууму, управління дугою, очищенням і т.д. Останні моделі забезпечені мікропроцесорною технікою, що дозволяє повністю за заданою програмою проводити нанесення покриттів.
. 3 Методика нанесення покриттів на інструменти
Покриття на інструмент наносяться методом конденсації з плазмової фази в умовах іонного бомбардування (метод КІБ) на вакуумній установці іонно-плазмового напилення ННВ 6,6 И1.
Важливою особливістю методу КІБ є утворення інтенсивних іонізованих потоків испаряемого дугою металу. У процесі осадження поверхню зростаючого покриття піддається інтенсивній іонної бомбардуванню. У результаті відбувається підвищення температури поверхні і відповідно активація плазмо-хімічних реакцій металу з азотом в зоні формування покриття.
Метод конденсації покриттів з плазмової фази в умовах іонного бомбардування заснований на взаємодії в плазмовому стані (плазмохімічні реакції) металевою плазми елементів III, IV групи і деяких інших елементів таблиці Менделєєва з плазмій хімічних елементів IV, V груп.
Покриття КІБ отримують наступним чином. У вакуумі (10-3 мм.рт.ст.) горить на катоді вакуумна дуга. Катод виготовлений з металу III, IV групи, наприклад, титану. У катодних плямах дугового розряду досягається температура 104 К. Катод імітує електрони, метал катода при цьому випаровується і частково іонізується в електрополе дугового джерела. Потік електронів тече у бік анода (корпусу), а іони випарувався матеріалу- катода бомбардують катод.
За рахунок потоку електронів з катода, металевої плазми і залишкової газової металевої плазми в проміжку анод-катод підтримується електропровідність і тече електричний струм. Металева плазма і пари матеріалу катода за рахунок газодинамічних сил, обумовлених різницею тисків в дуговому випарнику і камері, закінчуються в робочий простір вакуумної камери. Тут знаходяться вироби, на поверхню яких необхідно конденсувати покриття, наприклад, з нітриду титану. Виріб знаходиться під негативним потенціалом, створюваним спеціальним джерелом. Під дією електростатичних сил іони титану (металева плазма) рухаються в сторону виробу. Енергія металевої плазми легко регулюється величиною потенціалу вироби, а розміри потоку плазми легко регулюються магнітним полем фокусирующей котушки електродугового випарника. У вакуумній камері знаходиться реагує газ- азот при тиску близько 10-3...
