Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Новые рефераты » Обладнання для обробки проекспоніровать фотоматеріалів

Реферат Обладнання для обробки проекспоніровать фотоматеріалів





ФНА налаштований і лінеаризованих під щільність 3.5D, a що прийшов клієнт просить вивести плівки з щільністю 4.0D, то необхідно, строго кажучи, не тільки збільшити рівень експозиції, а й провести линеаризацию заново.

Нерівномірність точки вимагає при контактному копіюванні ретельного підбору експозиції для точної передачі півтонів. Зазвичай виконуваний підбір експозиції за допомогою багатопільної шкали, не з огляду нерівномірність точки, дає лише деякий умовне значення, тому для точного підбору експозиції необхідний денситометричний контроль отриманих з тестової форми відбитків. Ще більше проблем виникає при використанні стохастичного (частотно-модульованого) растрування. Хороші растрові процесори (RIP) мають спеціальну процедуру для двоетапної лінеаризації ФНА.

В даний час фірма Fuji являє плівки четвертого покоління HQ Series. Головна відмінність цих плівок - дуже В«твердаВ» точка практично незалежно від типу лазера. p> Плівки забезпечують високу чіткість відтворення, великі значення максимальної оптичної щільності і полегшують процес лінеаризації ФНА. p> Рекомендовано фірмою FUJI оптична щільність для плівок HQ Series при використанні хімікатів FUJI становить 5,2 D. Така висока щільність забезпечує стабільність формного процесу і простоту вибору експозиції для контактного копіювання як для регулярного, так і для стохастичного растрування.

Структура усіх плівок включає антистатичний, протиореольний і захисний шари, а також спеціальний водонепроникний шар, що запобігає зміна лінійних розмірів зображення. Захисний шар має пористу поверхню, що дозволяє зменшити час при переконтакте на плівку або пластину в два рази.


3. Обробка фотоформ


Найбільш поширеною є така схема технологічного процесу: проявлення - фіксування - промивка - сушка (рис. 1). Після виконання цих операцій отримують готове фотографічне зображення (негатив або діапозитив).

В В 

Рис. 1. Схема проявного апарату типу РПП-50А:

1 - завантаження фотоматеріалу; 2 - мокра обробка; 3 - сушка; 4 - вивантаження сухої плівки


Розглянемо призначення і фізичну суть окремих технологічних операцій.

Під час прояви фотографічного зображення відбувається перетворення прихованого зображення у видиме. Це - основний процес хіміко-фотографічної обробки світлочутливих шарів. При однакових умовах (якість фотоматеріалу, правильність експозиції та ін) від процесу прояви в першу чергу залежить якість фотографічного зображення.

Фіксування - це розчинення і виведення (видалення) з емульсійної шару непоновлення галогенідусрібла, тієї його частини, яка не була переведена в срібло при прояві.

Промивання служить для видалення залишків робочих розчинів і забруднень з поверхні фотоматеріалу, які могло б зіпсувати зображення при збереженні фотоматеріалу.

При сушінні фотоматеріалу відбувається вида...


Назад | сторінка 2 з 6 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Розробка програми з використанням OpenGL для динамічного зображення тривимі ...
  • Реферат на тему: Освітлення виставкової експозиції
  • Реферат на тему: Проблеми сучасної експозиції в музеї
  • Реферат на тему: Соціальна пам'ять в дії: до соціології музейної експозиції
  • Реферат на тему: Побудова яркостной гістограми зображення зерен пилку, отриманих за допомого ...