нює свої властивості, як і у випадку обробки 0.5 М лугом NaOH. p align="justify"> Після обробки 3% водним розчином NaClO зразків протягом 15 хв, 30 хв і 2:00 зміна кута змочування носить наступний характер. Для скла максимальне значення кута спостерігається після 15 хвилин обробки. Потім система повертається практично в початковий стан. Для ПК відбувається збільшення кута ~ на 6 градусів після 15 хвилин і зберігається майже незмінним. Обробка ПММА практично не призводить до зміни контактного кута. p align="justify"> Діаграми були побудовані на основі статистичних даних, наведених у таблицях Додаток 1, 2, 3, 4. br/>
5.5 Дослідження впливу методів обробки на рельєф поверхні
З метою контролю шорсткості поверхні досліджуваних матеріалів після фізичного (нанесення тонких металевих плівок Au, плазмова обробка поверхні) і хімічної обробки за допомогою методів оптичної мікроскопії ближнього поля (зондовая нанолабораторія NTEGRA Solaris) вимірювалася середня арифметична шорсткість Ra.
Рис. 26. СЕМ зображення вихідного рельєфу поверхні ПК
(шорсткість Ra - 0,82 нм).
Порівнюючи результати вимірювання нерівномірності поверхні ПК вихідного рельєфу (рис. 26) і після впливу УФ випромінювання протягом 20 хвилин (рис. 27), можна спостерігати збільшення значення Ra з 0,82 нм до 2,22 нм, при цьому топологія поверхні істотно не змінилася. br/>В
Рис. 27. СЕМ зображення рельєфу поверхні ПК після впливу УФ випромінювання, 20 хв, спектральний діапазон 250 - 350 нм (шорсткість Ra - 2,22 нм). p align="justify"> Після напилення шару золота товщиною 6 нм на зразок ПК, шорсткість не змінюється порівняно з вихідною поверхнею (рис. 28). br/>В
Рис. 28. СЕМ зображення рельєфу поверхні ПК після напилення шару Au товщиною 6 нм (шорсткість Ra - 0,80 нм). br/>
Після обробки ПК 3% NaClO і 0.5 NaOH протягом 2 годин (рис. 29 і рис. 30) поверхня стає більш шорсткою і спостерігається більш висока гідрофобність матеріалу. <В
Рис. 29. СЕМ зображення рельєфу поверхні ПК після обробки 3% NaClO протягом 2 годин (шорсткість Ra - 2,88 нм). br/>
В В
Рис. 30. СЕМ зображення рельєфу поверхні ПК після обробки 0.5 NaOH протягом 2 годин (шорсткість Ra - 1,08 нм). br/>В
Рис. 31. СЕМ зображення рельєфу поверхні ПК після обробки плазмою 30 сек (шорсткість Ra - 2,88 нм). br/>
У разі обробки поверхні ПК плазмою протягом 30 сек (рис. 31), шорсткість набуває більш виражений характер. p align="justify"> На рис. 32 представлені зображення вихідного рельєфу поверхні скла К8 після механічної обробки і після хімічної обробки (кислотне травлення-HF 4 ). Проведені дос...
