інтегрованої системи розпилення, яка об'єднує їх гідності і дозволяє забезпечити отримання тонких плівок з високою адгезією, малим рівнем забруднень і з високою швидкістю осадження.
магнетрон розпилювальним системам властиві певні недоліки. У першу чергу до них слід віднести порівняно високий робочий тиск у камері, що негативно позначається на рівні забруднень одержуваного покриття сторонніми газовими включеннями.
Метод іонно-променевого розпилення, що проводиться при меншому тиску, ніж магнетронне, вносить менший рівень газових включень у формовані плівки. З точки зору отримання Високоадгезійна покриттів, іонні методи формування плівок довели свою безперечну перевагу, в результаті чого отримали розвиток стосовно до отримання захисних, зносостійких, оптичних покриттів і, в силу своїх особливостей є одними з найбільш бажаних. Цей метод, як і магнетронне розпорошення, дозволяє проводити і реактивне іонне розпилення. Однак він не забезпечує високих швидкостей осадження (приблизно на порядок менше, ніж у магнетронних розпилювальних систем).
Як правило, магнетронний розпилювальні системи працездатні в діапазоні тисків від 10-1 до 1 Па і вище. Найважливішими параметрами, багато в чому визначають характер розряду в МРС, є геометрія і величина магнітного поля, від індукції якого у поверхні мішені в чому залежить робочий тиск. У роботі було встановлено, що інтенсивність розряду МРС зростає із збільшенням напруженості електричного поля та індукції магнітного поля на поверхні мішені.
В результаті замагнічіванія електронів різко збільшується інтенсивність електрон - атомного взаємодії, і як наслідок, зростає ступінь іонізації плазми і щільність іонного струму. Таким чином, ефект накладення магнітного поля еквівалентний збільшенню тиску газу. Еквівалентна тиск визначається за формулою:
=po (w e t e +1) (3.1)
де po - робочий тиск;
te - час між зіткненнями електрона з атомами робочого газу;
we - циклотронна частота електрона.
Іонізовані атоми під дією електричного поля прискорюються і бомбардують поверхню мішені.
Зі зменшенням тиску ВАХ зсуваються в область великих робочих напруг. Аналогічний вплив робить збільшення магнітної індукції. Оскільки при низькому тиску розряд в МРС підтримайється в основному за рахунок вторинних електронів, що емітуються з мішені в результаті іонного бомбардування, то на ВАХ великий вплив робить матеріал мішені.
Існує кілька шляхів формування розряду низького тиску в магнетронних розпилювальних системах.
Одним із шляхів є обмеження області газового розряду магнітним полем. У цьому випадку запобігання потрапляння силових ліній за краї мішені може бути здійснено оптимізацією розподілу магнітного поля використанням додаткового джерела магнітного поля в периферійній області розряду. Запобігання попадання ліній магнітного поля за краї мішені перешкоджає відходу електронів з розрядної зони в площині мішені. Подібне обмеження розряду в МРС управляється величиною і конфігурацією силових ліній, формованого додатковим джерелом магнітного поля (Малюнок 4.1). Такі конструкції називаються МРС низького тиску незбалансованого типу, де оптимізація розподілу B-поля може бути виконана двома електромагнітами, пост...
