ійними магнітами або комбінацією з електромагнітів і постійних магнітів. Незбалансований магнетрон низького тиску може працювати при тисках до 10-2 Па з досить великими струмами розряду в діапазоні від 0.1 А до декількох ампер для магнетрона з мішенню діаметра 100 мм.
Малюнок 3.1 - Конфігурація магнітного поля
Однак поряд з позитивним ефектом подібна конфігурація магнітного поля в такій системі може зменшити час знаходження певної частини електронів в розрядної області і, відповідно, зменшити ймовірність іонізаційних зіткнень. Таким чином, одним із завдань, які необхідно вирішувати в процесі проектування інтегрованої магнетронній розпилювальної системи є отримання найкращої конфігурації магнітного поля, при якій баланс цих процесів носить позитивний характер.
Отримані умови добре узгоджуються з модельним описом процесу іонообразованія в МРС і послужили основою до проектування високовакуумних МРС.
Для проектування високовакуумних магнетронних розпилювальних систем необхідна розробка інтегрованої МРС з індукцією магнітного поля біля поверхні мішені порядку не менш 0,07 Тл.
При проектуванні високовакуумних магнетронних розпилювальних систем необхідно брати до уваги й інші фактори:
величину охолодження магнітної системи та мішені для досягнення умови безперервної роботи протягом тривалого періоду часу при підведенні максимальної планованої потужності;
рівномірність умов створення розряду в схрещених E ^ H полях уздовж все го замкнутого контуру робочої зони;
забезпечення необхідного тиску в зоні розпилення за рахунок диференційованої подачі газу в квазізамкнутий обсяг розрядної камери. На малюнку 3.2 представлено схематичне зображення іонно-променевого джерела, який буде базою для створення інтегрованої магнетронній розпилювальної системи.
Рисунок 3.2 - Конструкція вихідного іонно-променевого джерела на основі прискорювачів з анодним шаром
Досліджувана конструкція інтегрованого розпилювального устаткування призначена для монтажу на експериментальну установку, виготовлену на основі базової вакуумного поста ВУ - 2 МП. Вакуумна установка має камеру, обладнану чотирма фланцями. Фланці розміщені попарно, одна пара на верхній кришці камери, а друга пара на протилежних стінках камери навпроти один одного. На цих фланцях кріпляться розпилювальні системи. Харчування електромагнітів систем здійснюється від двох стабілізованих (для кожного окремо) джерел постійного струму ТЕС - 5010. Для живлення іонно-променевого джерела застосовується високовольтний блок живлення з максимальним вихідним напругою 6.0 КВ і максимальним вихідним струмом 0.5 А. Максимальна вихідна напруга блоку живлення магнетрона -1000 В і струм до 5 А. Блок живлення магнетрона містить дугогасильний елемент для придушення дуг, що виникають у процесі роботи, і для полегшення режиму роботи самого блоку живлення.
Перед процесом розпилення камера вакуумної установки откачивалась до залишкового тиску 10-3 Па. Робочий газ (Ar), необхідний для роботи інтегрованих магнетронній розпилювальної системи і іонного джерела, подавався безпосередньо в іонний джерело при загальному тиску в камері 2? 10-2? 6? 10-2 Па. Підкладки розташовувалися на обертається каруселі.
