ачі, яка подається в плазмотрон за окремим газовій каналу. p align="justify"> Для цілого ряду плазмотехнологіческіх процесів вихровий спосіб стабілізації небажаний, потрібно аксіальна стабілізація. Тому сучасні плазмотрони комплектуються, як правило, змінними газоформірователямі, що дозволяють здійснювати вихревую і аксіальну газову стабілізацію. [2]
Плазмотрон з аксіальної газової стабілізацією плазми являє собою трубу з прозорого кварцу або іншого тугоплавкого вогнетривкого діелектричного матеріалу 10, один кінець якої вільний і поміщений в індуктор. Інший кінець труби закріплений в спеціальному утримувачі, слугує одночасно і газорозподільним пристроєм. Для термозащити труби по її внутрішній порожнині створюється газовий струмінь, висока швидкість якої перешкоджає проникненню термодіффузних потоків від плазми до стінки, тобто створюється як би газова завіса між стінкою і плазмою .. Для її формування всередину зовнішньої кварцовою трубки трохи вище зони розряду вставляється друга кварцова труба 6, зазор між якими дозволяє сформувати термозахисні струмінь і направити її уздовж внутрішньої поверхні зовнішньої труби. Внутрішня трубка ділить повний газовий потік на два: термозахисний і плазмообразующий. За їй може подаватися плазмообразующий газ, а в зазор - повітря або інший молекулярний газ. [1]
Важливе значення при роботі з ВЧ-плазмотронами має товщина термозахисної струменя. Крім того часто необхідною умовою надійності роботи ВЧИ-плазмотрна є крім термоізоляції розряду ще й зовнішній обдув кварцовою трубки 10. Трубка в зоні індуктора, незважаючи на внутрішній термозахисний потік, завжди нагрівається від випромінювання плазми, що може призвести до нагрівання повітря в зоні індуктора і викликати небажаний пробій між витками ндуктора. Зовнішній обдув не тільки підвищує надійність роботи плазмотрона, а й значною мірою відіграє роль фактора, стабілізуючого полум'я плазмотрона на виході з трубки. [2] З цієї точки зору являє інтерес конструкція плазмотрона з вихровий стабілізацією, представлена ​​на малюнку 1.9. У цій конструкції потік термозащитного газу, крім напрямку вздовж осі трубки 10, має ще й тангенціальну направляючу швидкості, яка створюється за допомогою завіхрітеля 6. Відцентрова сила, що виникає при цьому, притискає струмінь газу до внутрішньої стінки кварцовою трубки 10, створюючи тим самим тонкий шар термозащитного газу. Кожух 7 і два штуцери призначені для подачі і формування зовнішнього обдуває потоку, спрямованого в основному в зазор між трубкою 10 і індуктором 9. Система цангового затиску 8 дозволяє просто і легко робити заміну кварцових труб, кран 1 і штуцер 2 служать для подачі і регулювання швидкості термозащитного газу. p align="justify"> Крім того важливим конструктивним елементом ВЧИ-плазмотрона є екран, що закриває навколишній простір від світлового та електромагнітного випромінювання плазмотрона. Схеми таких плазмотронів представлені у додатку Б. [1]
...
