МІНІСТЕРСТВО ОСВІТИ УКРАЇНИ
Установа освіти
" Гомельський державний університет
імені Франциска Скорини"
Фізичний факультет
Кафедра оптики
Дипломна робота
Методи контролю товщини багатошарових покриттів на основі тугоплавких оксидів
Виконавець
студентка групи Ф - 53
Я.А. Миненок
Науковий керівник
к.т.н., доцент М.М. Федосенко
Гомель +2014
Зміст
Введення
. Сучасні методи контролю товщини в процесі формування покриттів оптичного призначення
.1 Стан і перспективи методів контролю оптичної товщини покриттів різного функціонального призначення
.2 Фотометричні методи визначення оптичної товщини тонких покриттів
.3 Системи контролю оптичних характеристик на основі сучасної комп'ютерної діагностики
. Контроль товщини оптичних покриттів на основі тугоплавких оксидів формованих методом електронно-променевого синтезу
.1 Фотометрична система контролю СФКТ - 751В
.2 Вбудована система контролю оптичних характеристик Iris - 0211
.3 Синтез одношарових і багатошарових покриттів і контроль їх оптичної товщини
. Дослідження спектральних характеристик багатошарових покриттів на основі тугоплавких оксидів і визначення їх оптичних параметрів
.1 Визначення фотометричних параметрів одношарових і багатошарових покриттів на основі тугоплавких оксидів
.2 Контроль оптичних характеристик за допомогою спектрального еліпсометрія ESM 512
3.3 Програма розрахунку інтерференційних покриттів
Висновок
Список використаних джерел
Додаток
оптичний тугоплавкий інтерференційний покриття
Введення
Оптика тонких шарів - нова частина прикладної оптики, що отримала швидкий розвиток з середини 20 століття. Стимулом до цього послужило успішне практичне використання явищ інтерференції і поляризації світла в тонких прозорих шарах, що докорінно змінює оптичні та інші властивості поверхні скла або іншої оптичної середовища.
Оптичні покриття являють собою тонкі шари діелектриків, металів або напівпровідників, утворені тим чи іншим способом на поверхнях масивних деталей або спеціально приготовлених підкладок. Тонкошарові покриття широко застосовуються в оптиці, мікроелектроніці, оптоелектроніці та інших галузях науки і техніки [1].
Стосовно до оптичним завдань слід відзначити важливу роль тонкошарових покриттів для збільшення коефіцієнта пропускання оптичних систем і тим самим підвищення їх світлосили. Навіть одношарове діелектричне покриття дозволяє суттєво впливати на переломлену й відображену складові світлової хвилі на межі розділу двох середовищ. За допомогою двох, трьох і більше певним чином підібраних шарів представляється можливим зменшити коефіцієнт відбиття на заломлюючих оптичних поверхнях в широкій області спектра (ахроматичну просвітлення) і одночасно забезпечити захисні властивості поверхонь на гігроскопічних і полімерних матеріалах. При цьому перспективні неоднорідні по товщині покриття з безперервно мінливим показником заломлення.
Вражаючі результати збільшення коефіцієнта відбиття дають тонкошарові покриття з чергуються шарів з високим і низьким показниками заломлення (діелектричні дзеркала), без яких важко уявити сучасні досягнення в лазерної техніки. Нанесення діелектричних шарів на звичайні металеві дзеркала істотно підвищує їх коефіцієнт відбиття (на 6? 8%), при цьому шари одночасно виконують важливу захисну роль, значно продовжуючи довговічність виробів. За допомогою тонкошарових покриттів вдається отримати і зворотний ефект - практично повністю погасити світло на блендам оптичних приладів.
Використання оптичних покриттів дозволяє заданим чином змінювати спектральний коефіцієнт пропускання (відбиття): виділяти вузькі ділянки спектру з напівшириною смуги пропускання до 1 нм і менше (вузькосмугові інтерференційні фільтри) або порівняно широкі ділянки спектру (широкосмугові фільтри), а також різко відділяти одне спектральний діапазон від іншого (отрезающие фільтри).
При нахилі вузькосмугового інтерференційного фільтра, розташованого в паралельному пучку променів, відбувається зміщення максимуму смуги пропускання в сторону коротких довжин хвиль. Ця властивість в системі двох інтерференційних фільтрів дозволяє обмежити польовий кут і усунути, наприклад, засвічення приймачів випромінювання для кутів падіння, переважаючих задані значення. Якщо в одному з філь...
