ючого діелектрика буде застосовуватися двоокис кремнію SiO 2.
Необхідно відзначити, що при проектуванні інтегральної мікросхеми виробляють сукупність певних процесів, таких як фотолітографія, легування, очищення та ін При проведенні цих процесів користуються цілком певним набором речовин. При проведенні процесу фотолітографії використовуються фоторезисти, основні види яких представлені в таблиці 2.9. Травлення здійснюється хімічними речовинами, які описані у таблиці 2.8. При виборі матеріалу для проведення шліфування, особливу увагу акцентують на розмір зерен, від якого залежить якість шліфування та можливі пошкодження поверхні напівпровідникового матеріалу в результаті її проведення. Основні типи порошків приведені в таблиці 2.7
Таблиця 2.7 - Характеристика абразивних і алмазних порошків
[9, стр.321]
Група
Номер зернистості
Розмір зерен основної фракції, мкм
За ГОСТ 3647-71
За ГОСТ 9206-70
Абразивні шліфпорошкі
Абразивні мікропорошки
Абразивні тонкі мікропорошки
Алмазні мікропорошки
12
10
8
6
5
4
3
М63
М50
М40
М28
М20
М14
М10
М7
М5
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
60/40
40/28
28/20
20/14
14/10
160 ... 125
125 ... 100
100 ... 80
80 ... 63
63 ... 50
50 ... 40
40 ... 28
63 ... 50
50 ... 40
40 ... 28
28 ... 20
20 ... 14
14 ... 10
10 ... 7
7 ... 5
5 ... 3
60 ... 40
40 ... 28
28 ... 20
20 ... 14
14 ... 10
1
-
-
-
-
-
10/7
7/5
5/3
3/2
2/1
1/0
10 ... 7
7 ... 5
5 ... 3
3 ... 2
2 ... 1
1 і менше
Таблиця 2.8 - Основні кислотні травители для кремнію
[9, стор 78]
Тип травителя
Об'ємний склад
Застосування
Час травлення
СР-8
СР-4А
травителях Уайта
травителях Дешан
HNO3: HF = 2:1
HNO3: HF:
: CH2COOH = 5:3:5
HNO3: HF = 3:1
HNO3: HF:
: CH2COOH = 3:1:8
Хімічне полірування
Хімічне полірування і виявлення кордонів pn-переходів
Хімічне полірування площин (111)
Повільне хімічне полірування будь-яких площин
1 ... 2 хв
2 ... 3 хв
15 з
1 ... 16 год
Таблиця 2.9 - Характеристики деяких фоторезистов [9, стор 104]
Марка фоторезиста
Роздільна здатність при товщині шару 1 мкм
Кислотостійкість по щільності дефектів, мм -2 , не більше
Стійкість до проявником, з
Кінематична в'язкість у стані постачання
при 20 В° С
ФП-307
ФП-309
ФП-330
ФП-333
ФП-334
ФП-383
ФП-РН-7
ФП-617
ФП-617П
ФП-626
ФН-106
ФН-108
500
400
400
500
400
400
400
500
500
500
200
400
0,35
0,5
0,75
0,2
0,2
0,2
0,2
0,05
...
