имів дозволяє зменшити дефектність шару і поліпшити відтворюваність результатів фотолітографії. p align="justify">. Виборче експонування фоторезиста УФ світлом. Таку операцію можна здійснити опроміненням світлочутливого шару через фотошаблон. p align="justify">. Прояв зображення в шарі резіста (наприклад, вибіркове видалення експонованих ділянок - у разі позитивних резистів або вибіркове видалення неекспонованих ділянок - у разі негативних резистів). Цей етап визначає функціональні характеристики резістних масок, а також технологічні параметри фотолітографії. При прояві використовується різниця у стійкості експонованих і неекспонованих ділянок шару фоторезиста стосовно дії виявляє хімічної речовини (агента) або фізичного впливу (наприклад, нагрівання). p align="justify">. Модифікація поверхневих шарів матеріалу підкладки (витравлювання об'ємних структур, легування матеріалу підкладки, нанесення на відкриті ділянки підкладки різних матеріалів і т.д.) через сформовані на її поверхні резістние маски. p align="justify">. Видалення резістной маски з поверхні підкладки. p align="justify"> Залежно від виду випромінювання, використаного для виборчого опромінення фотошаблона, розрізняють фотолітографію, електронну, рентгенівську і іонну літографії. Причиною розробки літографічних процесів з використанням електронного, рентгенівського та іонного випромінювань служить необхідність збільшення роздільної здатності процесу аж до отримання елементів з субмікронними розмірами менше 0.2 мкм. Оскільки перелічені вище види випромінювання мають меншу, ніж УФ світло довжину хвилі, неточності при експонуванні ними чутливих верств за рахунок хвильової природи випромінювання істотно менше. Хоча рівень роздільної здатності електронного літографії досить високий, цей метод володіє недоліком - низькою продуктивністю. Найкраще дозвіл реалізується при виборчому скануванні електронним пучком матеріалу резіста. Але процес цей є дуже повільним, а значить і малопродуктивним. p align="justify"> Використання для прискорення експонування так званого В«векторного способуВ», тобто набору зображення експонуванням широким пучком електронів призводить до більшої продуктивності. Однак при цьому виникають проблеми точного поєднання кордонів експонованих ділянок. Складність і вартість електронних літографії такого типу є надзвичайно високими. Тим не менш, у даний час векторний спосіб електронної літографії використовується для виробництва прецизійних рентгенівських і фотошаблонів. Рентгенівська літографія має більшу в порівнянні з електронної літографією продуктивністю, але джерела для отримання потужних пучків рентгенівських променів складні. Крім того, використання їх породжує проблеми, пов'язані із забезпеченням заходів радіаційної безпеки для персоналу, а також з отриманням рентгенівських шаблонів. Звичайно як їх використовуються кремнієві або поліімідние підстави з нанесеним на них прецизійним малюнком із золота, вольфраму або танталу. Але вони занадто с...
