хильні до руйнування. Доводиться забезпечувати так звані ребра жорсткості. Наступною серйозною проблемою експонування в технології виготовлення виробів електронної техніки, є низька чутливість більшості органічних матеріалів до рентгенівського випромінювання. Підвищують чутливість за рахунок введення до складу резіста сполук, що містять атоми важких елементів. Останнє призводить до забруднення матеріалу підкладки домішками атомів важких металів і невиправному зміни її електрофізичних властивостей. p align="justify"> За допомогою іонної літографії можна отримати вироби з мінімальними розмірами елементів. Іншим її перевагою є те, що впровадження іонів до складу шару резіста значно збільшує стійкість його до дії кисневої плазми або реактивного іонного травлення в кисні. У цьому випадку проявляти зображення можна травленням в кисневої плазмі. Однак, при явних перевагах цієї технології, вона має один істотний недолік: інтенсивність джерел іонів з прецизійно сформованими пучками занадто мала. p align="justify"> Оскільки в повітрі спостерігається присутність частинок розміром менше 0.5 мкм, а вони можуть довго перебувати в підвішеному стані і осідати на підкладки, що перешкоджає отриманню якісних структур, то фотолітографічне операції проводять в "чистих кімнатах", розташованих всередині робочих приміщень. Повітря, що подається в "чисті кімнати", ретельно фільтрують, пропускаючи через волокнисті фільтри з високою продуктивністю [8, 9, 10]. p align="justify"> Таким чином, у скляних МФЧ необхідно контролювати:
а) геометричні характеристики:
Гј форма структури (реактори, канали, мікросудини, змішувачі і т.д., профіль структури),
Гј макро розміри (наприклад, довжина каналів - від 5 мм до 100 мм, діаметр камер - від 0.5 мм до 10 мм),
Гј мікро розміри (мікрометровие - мікроструктури, у тому числі розміри і профіль каналу, діапазон від 1 мкм до 500 мкм),
Гј нано розміри (нерівномірність поверхні, шорсткість: 0,05-100 нм; розміри наноструктур);
б) властивості поверхні (наприклад, змочуваність), в) розміри фотошаблона; г) точність формування малюнка. br/>
2.2 Виготовлення полімерних МФУ
Різні мікроструктури в полімері можуть бути виготовлені різними способами. Це можуть бути: гаряче тиснення (рис. 2), лиття, літографія, лазерна абляція та інші. Залежно від того, який метод виробництва використовується при виготовленні МФУ з полімерних матеріалів, можуть з'являтися різноманітні джерела похибки, здатні викликати відхилення розмірів випускаються елементів. Так, наприклад, при грубій обробці майстер-форм необхідних для реплікації пристроїв, всі дефекти форми переходять на формовану деталь. До того...
