нювача, а самє: мікродісперснім нікелем (Ni), оловом (Sn), та графітовім порошком. У якості полімерної матріці служила Силіконова смола (Si), за отверджувач вікорістовувалі каталізатор КК - 2.5. Розрахунок масового вмісту та шкірного з компонент описів у пункті 2.3.2. Всього Було Виготовлено 3 зразки:
1) полімерна матриця Si з вмістом нікелю - Si +10% Ni;
) Та ж композиція з додаванням олова - Si +10% Ni +5% Sn;
) Та ж композиція з додаванням графіту - Si +10% Ni +5% G;
отриманий неотверджену композіцію поміщалі в спеціально віготовлені форми З тефлоновим покриття, додатково наносилася на скельце для мікроскопії, после чего зразок Зі скельця поміщалі в магнітне поле (рис.2.8 з напрямком силових ліній Вздовж зразки), после твердіння в полі композит віймається з форми I є готуємо до проведення вимірювань.
2.4 Калібрування магнітного поля
Калібрування магнітного поля проводилася помощью магнітометра МХ - 10, для Отримання Значення магнітної індукції (В) на заданій відстані между магнітамі. Для цього поступово змінювалі зазор между магнітамі и вімірювалі індукцію поля, по отриманий значеннях будувать калібрувальна крива (рис.2.10), З якої можна візначіті значення в в інтервалі відстані между магнітамі від 6 до 56 мм у відповідності з рівнянням апроксімації y=0,9614 exp (- 0,0243 x), де у є завбільшки індукції, х - відстань между магнітамі.
Рис. 2.10 Калібрувальна крива, для визначення Величини магнітної індукції, в залежності від відстані между магнітамі
Зазор между магнітамі, для положення теплоход впоперек поля БУВ Вибраний 32 мм (випадок б), для положення Вздовж - 46 мм (випадок в), індукція магнітного поля В, в місці находження зразки становила 0,45 Тл и 0,32 Тл відповідно (рис. 2.8).
РОЗДІЛ ІІІ. ДІЕЛЕКТРІЧННА ПРОНІКНІСТЬ ТА ЕЛЕКТРОПРОВІДНІСТЬ композити твердіння В МАГНІТНОМУ ПОЛІ. Обговорені РЕЗУЛЬТАТІВ
3.1 Співвідношення Вінера, рівняння Ліхтенекера
Для двохкомпонентної Суміші віконується співвідношення Вінера что опісує поведінку діелектрічної пронікності для різного складу матеріалу:
, (3.1)
де? Суміші це діелектрічна пронікність Суміші,? макс - діелектрічна пронікність кульового діелектріка при ЕЛЕКТРИЧНА полі, паралельних границі поділу шарів (рис. 3.1 крива 1), якові можна розрахуваті:
, (3.2)
? мін - діелектрічна пронікність кульового діелектріка при ЕЛЕКТРИЧНА полі, перпендикулярному до площини шарів (рис. 3.1, крива 2):
, (3.3)
де v1 и v2 - об `ємні долі компонентів,? 1 і? 2 - діелектрічні пронікності компонентів.
Для впорядкованим стану структурованих відповідають кріві - 1, 2, в залежнихості від ее природи, в нашому випадка крива 1 відповідає випадка твердіння в магнітному полі Вздовж теплоход, крива 2 - впоперек теплоход.
Таким чином, при довільному розподілі компонентів діелектрічна пронікність Суміші буде лежать между граничні значення діелектрічної пронікності кульового діелектріка з тою ж об `ємною концентрацією компонентів.
Співвідношення Вінера розповсюджується и на випадок багатокомпонентної Суміші
. (3.4)
Значення ...
