, дослідження дефектообразования;
прецизійні мікроскопічні вимірювання лінійних розмірів у микронном і субмікронних діапазонах;
аналіз молекулярного складу, товщин, оптичних характеристик (коефіцієнт пропускання і поглинання) оптично прозорих плівок, дзеркал у видимому та ІЧ діапазонах.
2. ТЕХНОЛОГІЇ ІОННО-променевого та іонно-плазмового ФОРМУВАННЯ ТОНКИХ ПЛІВОК
У процесі проходження практики особливу увагу було приділено розробкам науково-дослідної групи № 2.
Тому в даному розділі будуть розглянуті основні напрямки діяльності відділу і представлений короткий огляд розроблених пристроїв.
У лабораторії іонно-плазмових процесів формування тонких плівок проводяться роботи в галузі дослідження і розробки пристроїв і технологій іонно-плазмового формування тонкоплівкових шарів для оптики, мікро-, оптоелектроніки і зносостійких, захисно-декоративних тонкоплівкових структур.
Напрямки діяльності лабораторії
Розробка іонних джерел для процесів іонно-променевого розпилення, подвійного іонно-променевого розпилення, іонно-ассітірованного нанесення шарів (IBAD)
Розробка магнетронних розпилювальних систем і незбалансованих магнетронних розпилювальних систем, у тому числі для процесів магнетронного розпилення при зниженому тиску
Процеси реактивного іонно-променевого та магнетронного розпилення
Процеси незбалансованого магнетронного розпилення
Методи нейтралізації іонних пучків
Розробка процесів іонно-плазмового нанесення відображають структур з високою стійкістю параметрів
Розробка складів і процесів нанесення high-K і low-K діелектриків
Іонна полірування оптичних деталей
У лабораторії розроблено ряд іонно-променевих та іонно-плазмових пристроїв для технології формування тонких плівок: двопроменеві іонні джерела, які розпилюють іонні джерела, іонні джерела для іонно-асистував нанесення шарів, магнетронний розпилювальні системи (МРС) і незбалансовані магнетронний розпилювальні системи (НМРС). Розроблені іонно-плазмові пристрої мають просту конструкцію, прості в застосуванні і нечутливі до забруднення. Це дозволяє використовувати дані пристрої, як для досліджень, так і в промисловості.
У лабораторії розроблені технології іонно-променевого та іонно-плазмового формування тонких плівок, такі як іонно-променеве розпилення, подвійне іонно-променеве розпилення, іонно-ассітірованное нанесення (IBAD), реактивне магнетронне розпорошення, незбалансоване магнетронне розпорошення, що розрізняються діапазонами енергій іонів, плотностями струмів, робочими тисками, і т.д.
Розроблені іонно-плазмові пристрої та технології формування тонких плівок були впроваджені на ряді підприємств і в науково-дослідних лабораторіях Республіки Білорусь, колишнього СРСР та інших країн.
Одним з напрямків діяльності лабораторії є розробка, розвиток і впровадження сучасних технологій нанесення тонких плівок різного функціонального призначення.
В області інтересів лабораторії:
технології іонно-променевого та іонно-плазмового нанесення багатошарових структур для оптики і оптоелектроніки (плівки SiO2, ZnO, TiO2, Y2O3, Ta2O5, In2O3, AlN...
