Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Новые рефераты » Технологія та техніка виготовлення бескорпусной інтегральної мікросхеми

Реферат Технологія та техніка виготовлення бескорпусной інтегральної мікросхеми





конструктивні дані та вимоги.


1.1 Схема мікроскладення, електричні та експлуатаційні дані


Електрична схема МСБ зображена на рис.1.1:


Рис. 1.1


Вихідні електричні та експлуатаційні дані і матеріали наведено в табл. 1.1.1, 1.2.1 ... 1.2.4.


табл. 1.1.1

Вихідні данниеR 1, кОм1, 85R 2, кОм10, 1R 3, кОм13, 61Кол-во МСБ на подложке2С 1, пФ8814, 29С 2, пФ4667, 21С 3, пФ1848, 08Рабочее напруга конденсатора U р, В3Матеріал діелектрика конденсатораБССМощность розсіювання резисторів Р i, мВт7Матеріал резісторовСплав МЛТ - 3МДопускі на номінали резисторів і конденсаторів? R i =? C i=± 10% ПогрешностіПогрешность відтворення поверхневого питомого опору grs,% 2Погрешность опору контактів g Rк,% 2Погрешность відтворення питомої ємності g Co ,% 2Експлуатаціонние данниеІнтервал робочих температур DT, 0 С - 30 ... +30 Час експлуатації D t, ч.10 3

.2 Матеріали, використовувані для розробки мікроскладення


табл. 1.2.1

Характеристики матеріалів тонкоплівкових резісторовМатеріал резістораСплав МЛТ - 3ММатеріал контактних площадокМедь з подслоем ніхромаУдельное поверхневий опір r S, Ом /? 500 Температурний коефіцієнт опору TKR, 1/град ± 2? 10 - 4 Питома потужність розсіювання Р 0, Вт / см 2 2 Коефіцієнт старіння резистора До СТR, 1 / ч. ± 0,5? 10 - 5 Спосіб нанесення пленокТерміческое напиленіеХарактерістікі матеріалів тонкоплівкових конденсаторовМатеріал діелектрікаБоросілікатное скло (БСС) Матеріал обкладокАлюміній (Al) Діелектрична проникність e на частоті 1кГц3, 9 ... 4,2 Питома ємність С 0, пФ / см 2 1,5? 10 Квітня Тангенс кута діелектричних втрат tg d на частоті 1кГц0, 001Температурний коефіцієнт ємності ТКС, град - 1 0,2? 10 - 4 Електрична міцність Е пр, В / см (3 ... 5)? 10 Червень Коефіцієнт старіння ємності До стC, 1/час10 - 5 Спосіб нанесення пленокТерміческое напилення

табл. 1.2.2

Характеристики матеріалу подложкіМатеріалСіталл СТ50-1класс чистоти обработкі13 ... 14Температурний коефіцієнт лінійного розширення ТКЛР (х10 7) при Т=20 ... 300 0 С, 1/град50 ± 2 Коефіцієнт теплопровідності, Вт / (м? 0 С ) 1,5 Діелектрична проникність при f=1МГц і Т=20 0 С5 ... 8,5 Тангенс кута діелектричних втрат tg d (х10 4) при f=1МГц і Т=20 0 С20 Об'ємне питомий опір r V при Т=25 0 С, Ом? см-Електрична міцність Е пр, -

Матеріал для контактних майданчиків і провідників необхідно вибрати такий, щоб:

. Мав високу адгезію з підкладкою.

. Забезпечував необхідну провідність електричного струму.

. Повинен бути: хімічно інертним, стабільним.

Всіма перерахованими вище властивостями володіє алюміній з подслоем ніхрому. Підшар ніхрому забезпечує особливо міцне з'єднання з підкладкою і наступними шарами, шар алюмінію забезпечує високу провідність, хімічну інертність і стабільність.


табл. 1.2.3

Характеристики тонкоплівкових провідників і контактних площадокМатеріал подслояніхром Х20Н80Толщіна підшару, мкм0, 01 ... 0,03 Матеріал шару, мкмМедь МВТолщіна шару, мкм0, 6 ... 0,8 Питомий поверхневий опір r S, Ом /? 0,02 ... 0,04 Рекомендований спосіб контактування зовнішніх виводовСварка імпульсним непрям...


Назад | сторінка 2 з 15 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Коефіцієнт лобового опору корпусу безкрилого ЛА при надзвукових швидкостях ...
  • Реферат на тему: Коефіцієнт гідравлічного тертя
  • Реферат на тему: Оподатковуваний прибуток. Коефіцієнт поточної ліквідності
  • Реферат на тему: Коефіцієнт детермінації. Значимість рівняння регресії
  • Реферат на тему: Вплив допусків елементів на коефіцієнт підсилення