Вё 6 ат.% W) і Со-Р (2 Вё 5 ат.% Р), отриманих електрохімічним осадженням при різних температурах (Со-W) і різної концентрації гіпофосфіти натрію в електроліті (Со-Р). Плівки Со-W складаються з кристалітів ГПУ кобальту різного типу: циліндричного з текстурою [00.1] або пластинчастого з текстурою [10.0]. Частка кристалітів того чи іншого типу залежить від умов електролізу, а самі кристаліти розподіляються по поверхні підкладки практично рівномірно, проростаючи в основному на всю товщину покриття [3]. Плівки Со-Р складаються з кристалітів ГПУ фази з переважною орієнтацією [00.1]. При осадженні з електроліту з концентрацією гіпофосфіти натрію 5 г/л покриття складаються з агрегатів розміром ~ 700 нм, які об'єднують більш дрібні кристаліти розміром 10 нм. Кристаліти орієнтовані переважно вздовж напрямку [00.1], одночасно спостерігається і текстура [10.0] [4].
Для аналізу були обрані такі структурно-чутливі характеристики, як польова залежність незворотною сприйнятливості c d irr = dI d /dH, де I d -залишкова намагніченість зразка після виключення негативного поля (попередньо зразок був намагнічений до насичення позитивним полем) і крива Dм (Н) = I d (H) - (1-2I r (H)), де I r - залишкова намагніченість, отримана при послідовному намагніченні зразка з розмагніченого стану. Dм-крива (як і взаємне розташування кривих незворотною сприйнятливості, отриманих при намагнічуванні і розмагнічуванні) характеризує тип взаємодії магнітних складових покриття (кристалітів) (Dм (H) <0 - магнитостатическое взаємодія, Dм (H)> 0 - обмінна взаємодія або процеси зсуву доменних кордонів) [2]. p> На кривих польовий Залежно сприйнятливості c d irr (H), знятих на покриттях Со-W зі змішаною текстурою (обложених при 26 про С і 33 про С) спостерігається два піки: перший-в полях ~ 32 кА/м, а другий - у полях ~ 48 кА/м, причому підвищення температури електроліту призводить до відносного зростання першого піка (Мал.). Подальше підвищення температури електроліту (понад 33 про С) призводить до зростання тільки одного піку в області полів ~ 32 кА/м (криві 4 і 5). Покриття, отримане при Т = 18 В° С, характеризується одиночним піком при ~ 16 кА/м. На кривих c d irr (H) покриттів Со-Р найбільш помітні два піки: у полях ~ 48 і 128 кА/м; перший помітно гостріше і вище другого. У зразків Со - 3ат.% Р відбувається зсув першого піку в бік великих полів (~ 64 кА/м), а другий пік зникає. Покриття Со-3.5 ат.% Р на кривій c d irr (H) мають один досить високий і вузький пік в полях ~ 160 кА/м. Подальше збільшення вмісту фосфору в зразках викликає зниження величини піків в області полів ~ 160 кА/м і деяке зростання піків в полях ~ 80 кА/м.
В
Рис.6. Криві c d irr (H) покриттів Со-W (pH 6.4, h = 1 мкм), отриманих при різній темпера...
