Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Курсовые проекты » Розробка Загальної схеми технологічного Процес нанесення покриття

Реферат Розробка Загальної схеми технологічного Процес нанесення покриття





ify"> У якості плазмоутворюючих газів при плазмовому нанесенні покрить найчастіше застосовують N2, Аг, Нє, ІМНз та їх суміші. Для Підвищення ефектівності теплового процесса вігідно використовуват газов, что мают більшій тепловміст. При нагріві одноатомну газів внесок у ентальпію вносячи лишь тепловий рух и іонізація, тоді як для дво- и багатоатомніх газів додаткова енергія вкладається в результате дісоціації

известно, что якісні покриття самофлюсівніх сталева отримуються при їх напиленні в плазмі аргону. Для Підвищення тепловмісту плазмового потоку в даного дипломного проекті Пропонується застосуваті газову суміш аргонводень. Известно, что Воден Забезпечує плазмовий потік з високим тепловмістом та високій температурі, має скроню теплопровідність, є дешевим газом. ВРАХОВУЮЧИ, что Завдяк вісокій теплопровідності, Воден віклікає інтенсівну ерозію електродів, его застосовують только у сумішах.

З вищє сказаного робимо Висновок, что для плазмового напилення валу втулки доцільно буде застосуваті газову суміш складу Аг + (15-20%) Н2, для якої необходимо вікорістаті аргон вищий сорт марки А за ГОСТ 10157-79 та Воден технический стиснутий ГОСТ 3022-80 марка А. Як транспортувальній газ для порошку вікорістовуємо аргон.


. 4 Вибір параметрів режиму напилення


Правильний вибір режімів Нанесення покрить буде мати вірішальній Вплив на якість захисних кулі. У зв язку з великою кількістю факторів, что вплівають на Властивості нанесеного покриття режими напилення вібіраються з літературних даних, что базуються на результатах експеріментів.

Температура поверхні при нанесенні покриття не винних перевіщуваті 150 ° - 200 ° С, щоб избежать суттєвої деформації валу, Виникнення значний внутренних напружености, Утворення тріщін та відшарувань.

При плазмовому напиленні домінуючій Вплив на температуру частінок, ШВИДКІСТЬ та температуру плазмового потоку має Потужність дуги. Потужність дуги, в свою черго, візначається двома параметрами: силою Струму та напругою. Напруга дуги покладів від Довжину дуги, яка візначається основном конструкцією плазмотрона, а такоже видом та витратами плазмоутворювального газу. ГІрі заданій напрузі Потужність дуги регулюється силою Струму дуги. Загаль, при підвіщенні сили Струму дуги зніжується порістість покрить, растет Продуктивність напилення та коефіцієнт использование матеріалу, збільшуються температура и ШВИДКІСТЬ частінок. У цілому Підвищення сили Струму дуги позитивно впліває на якість покрив, проте пріскорює ерозійній знос електродів. Вібіраємо силу Струму 375А для нанесення основного покриття та 350А для нанесення перехідного кулі.

Для плазмового напилення оптимальна ДИСТАНЦІЯ напилення в залежності від режиму роботи плазмотрону знаходится в межах 50-300мм. Малі дістанції НЕ всегда забезпечують Ефективний нагрів частінок та збільшують небезпеки перегріву поверхні вироби. А при великих дістанціях можливе зниженя швідкості та температура частінок. Використання плазмоутворюючої суміші з підвіщеннім тепловмістом дозволяє збільшити Дистанцію напилення для напилення перехідного кулі 180-200мм, необхідну при напиленні термореагуючіх порошків. Для основного покриття вібіраємо Дистанцію напилення 170 мм.

Механізоване Нанесення покриттів на ціліндрічні деталі проводять при обертанні деталі і зворотна-поступальний переміщенні плазмотрона. Значення Вказаною параметрів для деталей різніх діаметрів наведені в табліці 2.4


Таблиця 2.4 Значення кінематічніх параметрів напилення

Діаметр деталіШвідкість Обертаном деталі, об/хв.Швідкість переміщення плазмотрона, мм/об.Від 50 до 8080-902,5-3,0Від 80 до 15060-701,8-2,0Понад 15020-301,2-1,5

Вибрані режими плазмового напилення наведені в таблиці 2.5 та 2.6.


Таблиця 2.5 Параметри режиму напилення перехідного шару

ПараметрЗначенняСіла СТРУМУ, А350Напруга дуги, В70Марка порошкуПТ-НУ - 01Від плазмоутворювального газусуміш аргон + (15 ... 20)% воднюВітраті плазмоутворюючих газу, м7год3Дістанція напилення, мм180-200Вітраті порошку, кг/год.05Швідкість Обертаном валу, об/хв..70Швідкість переміщення плазмотрона, мм/об.2Товщіна покриття, мм0,10-0,15Кількість проходів1-2


Таблиця 2.6 Параметри режиму напилення основного покриття

ПараметрЗначенняСіла СТРУМУ, А375Напруга дуги, В70Марка порошкуПР-НХ17СР4Від плазмоутворюючих газусуміш аргон + (15 ... 20)% воднюВітраті плазмоутворюючих газу, м3/год5Дістанція напилення, мм170Вітраті порошку, кг/року год.Н 5Швідкість Обертаном валу , об/хв.70Швідкість переміщення плазмотрона, мм/об.2Товщіна покриття, мм1,35-1,40Кількість проходів26-28

безпосередно перед напиленням, для зниж...


Назад | сторінка 5 з 7 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Антикорозійний захист медичних виробів з використанням технологій плазмовог ...
  • Реферат на тему: Вакуумне напилення
  • Реферат на тему: Магнетронного напилення
  • Реферат на тему: Оптимізація процесу напилення матеріалу в магнетронній системі розпилення
  • Реферат на тему: Автоматизований електропривод механізму маніпулятора установки напилення мі ...