км для зазору 5-10 мкм: p> p> W @ Г– 0.7 l Z. (16) p> При подальшому збільшенні зазору в зображенні з'являються другі і треті дифракційні порядки і результуючий профіль виявляється сужающимся донизу. p> Близько розташовані лінії при контактного друку або друку з зазором розпливаються за конструктивної інтерференції між хвилями, діфрагіровать на відповідних отворах. Однак якщо на одне із сусідніх отворів шаблону нанесено покриття, що змінює фазу проходить через нього випромінювання на 1800, то при товщині цього покриття p> t = l (2n-1) (17) p> між світловими потоками від різних отворів відбувається деструктивна інтерференція. p> p> Рис. 8. Зміна ширини лінії в залежності від величини зазору при друку з зазором. p> p> Вона мінімізує дифракції-ційних ефекти і дозволяє працювати з двоє великими зазорами. Максимальним віддаленням шаблону від пластини (або граничним розміром сторонньої частинки між шаблоном і резистом) є видалення при якому спотворення зображення не перевищує 10% (рис.8). p> Використання більш короткохвильового випромінювання в контактній друку і друку з зазором також дозволяє працювати з великими зазорами. Круглі отвори відтворюються краще, ніж прямокутні фігури, в яких спостерігається закруглення кутів внаслідок внутрішнього ефекту близькості. p> Завдяки дифракції дефекти у вигляді точкових проколів не відтворюється. Використання негативних фоторезистов в методі друку з зазором ускладнене тим, що інтенсивність діфрагіровать на шаблоні світла зменшується при його поширенні за шаблоном, і в резісте друкують високі порядки дифракції. p> Практично метод друку з зазором є компромісом між дозволом і собівартістю інтегральних схем за рахунок частої зміни шаблонів (в контактній друку). Друк з зазором вимагає прецизійної установки зазору, належного суміщення і хорошою колімації пучка. p> Головні проблеми контактного друку пов'язані з незадовільним контактом шаблон - пластина і накопиченням дефектів. Поганий контакт між шаблоном і пластиною може бути викликаний лінійним або нелінійним викривленням пластини після нанесення епітаксійних шарів, частинками забруднень або крайовим валиком резістной плівки, що утворюється при центрифугованих. p> p> Проекційна друк. p> У скануючих системах (сканерах) і пристроях покрокового суміщення (степперах) використовується як відбивна, так і переломлююча оптика. При скануванні пластина експонується послідовністю проходів і можливістю пересовмещенія по локальних мітках в середині пластини відсутня. Якщо в першому поколінні степперов переміщення здійснювалося переміщення на фіксований крок без звернення до локальних мітках суміщення в середині пластини, то в сучасних степперах проводиться суміщення на кожне поле і досягається узгодження по двох координатах, куту повороту, фокусу і нахилу. p> Степпери володіють кращою точністю суміщення, в них використовуються дешевші шаблони і існуючі позитивні резісти, експоновані в спектральному діапазоні 365-435 нм. Однак продуктивність степперов нижче прод...
