вирішене в металі. Колони і ригелі ДВУТАВР перетину із зварених профілів. Просторова стійкість будівлі забезпечується системою вертикальних зв'язків по колонах. Внутрішні перегородки - збірні залізобетонні=80 мм, по серії 1.ОЗО.9-2.
Плити перекриття ребристі залізобетонні висотою 400 мм, по серії ІІ 24-2/??70.
Зовнішні керамзитобетонні панелі товщиною 300 мм по серії
. 030.1-1.
Фундамент під будівлю виконаний у вигляді суцільної плити товщ. 1 м на свайне підставі.
(Тут і далі в тексті, посилання на застарілі нормативні документи використовується у зв'язку з тим, що проект розроблявся в 1989-1992 р і проектувальники посилаються на дані документи.)
Розташування та призначення приміщень.
Конструктивно будівля можна розбити на дві основні частини - відділення ректифікації і допоміжні та технологічні приміщення.
Відділення ректифікації займає площу 1188м 2, розміри в плані: 54х22 м розділене перекриттями на 6 поверхів заввишки 7 і 14 м. До позначки +43,2 розташовані ректифікаційні колони, на монтажному майданчику +46,8 встановлені конденсатори. Збірники, прийомні і проміжні ємності розташовуються на позначках: +36,0; +28,8; 0,00. Для різних процесів колони і ємності об'єднані в групи. Процеси ректифікації трихлорсилану протікають в 4 колонах (2 робітники, 2 резерв) в осях: І-Е в північній частині приміщення. Процеси поділу суміші ТХ (тетрахлорсілана) і ТХС (трихлорсилану) у центральній групі колон (осі Е-В). Процеси ректифікації негорючого ТХ в південній групі з 5 колон (осі Б-В і 6-7). Усього розміщено 15 колон. Для пуску другої черги заводу передбачено розмістити ще 9 колон.
Всі приміщення відділення ректифікації мають стрічкове скління площею 540м 2, загальна площа стін 1064м 2, що складає 50,75%.
Допоміжні приміщення відділені суцільним коридором представляє додатковий захист, відокремлені тамбур-шлюзами.
Внутрішні перегородки виконані з Ж/Б плит вставки з цегли.
Підлога в приміщеннях мозаїчні, бетонні зі шліфуванням, кислототривкі. Місцями викладені керамічною кислотоупорной плиткою.
На позначці +7,0 розташоване приміщення КВП. На позначці 0,00 приміщення припливної вентиляції, електрощитова, приміщення станції пожежогасіння.
З боку допоміжних приміщень розташована зовнішня евакуаційна сходи.
Техпроцесс автоматизований. Перебування людей мінімальне (оператори КВП і черговий персонал).
Опис аппартурно-технологічних схем
Апаратурно технологічні схеми дослідно-промислового виробництва і промислового виробництва розроблені на підставі наступних документів:
Рекомендації за технологічним регламентом для Красноярського ГХК на проектоване виробництво полікристалічного кремнію, 1992 рік.
Технологічний регламент на розробку процесу отримання трихлорсилану, 1990 рік.
Технологічний регламент на очищення парогазової суміші від хлористого водню, 1990 рік.
Технологічний регламент на розробку комплексної системи управління процесом регенерації водню у виробництві полікремнію в замкнутому циклі, 1989 рік.
Ректифікаційна очистка хлорсіланов.
Ректифікація вихідного і оборотного тетрахлорсілана, очищення трихлорсилану, очищення від полісіланхлорідов, поділ суміші і конденсація абгазов розміщуються в корпусі очищення хлоридів (Кохе), є загальними для дослідно-промислового виробництва і промислового виробництва. Спрощена апаратурно-технологічна схема представлена ??на кресленні.
Очищення вихідного і оборотного тетрахлорсілана.
Вихідна сировина - тетрахлорсілан технічний поліпшений за ТУ 6-02-710-80 надходить зі складу в ємності, передавлюється в приймальні місткості і разом з оборотним ТХ надходить на очищення в установки ректифікації. Тетрахлорсілан самопливом направляють у верхню третину першого ступені ректифікації. Низькокиплячі домішки - хлориди бору, фосфору і деяких інших концентруються у верхній частині колони і безперервно виводяться з процесу у вигляді легкозакипаючої фракції. Для більш повного виведення домішок бору подається зволожений азот. Вихід на операції - 96,5%. Низькокипляча фракція збирається в збірні ємкості. Продукт становить 3% від харчування колони і відповідає якості ТХС технічний за ТУ 48.4-180-77 і направляється на склад для реалізації.
Очищений від низкокипящих домішок тетрахлорсілан передається на другу щабель ректифікації для...
