ий жирових та других Видів Забруднення; видалений оксидного плівок при підготовці металевих, металідніх або металоїдніх поверхонь.
Поряд з ЦІМ звітність, актівуваті напілювану Поверхні, тоб вивести ее Зі стану термодінамічної рівновагі. Для цього необхідне розірваті зв'язки между Поверхнево и стороннімі атомами твердого тіла, підвіщіті Енергію Поверхнево атомів до різня забезпечення їхньої хімічної взаємодії з напілюванімі частинками. При напілюванні покриттів на актівовану поверхнею звітність, вра ховуваті можлівість швидкої ВТРАТИ придбаних властівостей. Хімічна адсорбція атмосферних газів відновлює звільнені міжатомні зв'язки. p> Актівація напілюваної поверхні однозначно підсілюється при утворенні в Поверхнево шарі структурних дефектів. При цьом НЕ Тільки зростає енергія атомів, альо и збільшується ШВИДКІСТЬ їхньої діфузії в процесі хімічної взаємодії.
Підготовку поверхні треба Проводити з таким розрахунки, щоб поряд з очищених здійснювався и процес ее актівації. Вибір способу підготовкі поклади від матеріалу напілюваного вироб и его конструкції звітність, враховуваті у віробі наявність тонкостінніх ЕЛЕМЕНТІВ, У цьом випадка Активні зрушені деформації в Поверхнево кулях приведуть до вікрівлення геометрії вироби.
Знежірення напілюваніх виробів
Знежірення має на меті видалений різного роду жирових Забруднення. Разом з попереднім и Наступний проміваннямі відаляється більшість різніх Забруднення, хімічно НЕ зв'язаних з поверхнею вироб. Знежіренню піддають практично ВСІ напілюванні вироби. Обробка ведуть у ваннах чг застосовують місцеве знежірення, за помощью протирання дрантя чг бавовнянімі серветки.
рекомендуються багатая складів ванн и режімів ОБРОБКИ. Зокрема:
1) 35-40г/л трінатрійфосфату;
2) 40-45г/л кальцінованої Соді.
Температура ванни 75 -85 В° С; годину знежірення 20-25хв. Потім промівають Гаряча і холодною проточною водою з Наступний сушінням стисненим повітрям, підігрітім до температури 50 В° С.
Широке Поширення здобуло знежірення у ваннах з органічнімі Розчинник, Наприклад, "Ломбід - 315" та ін. Для місцевого знежірення застосовують більш Сильні розчинники: бензин, уайт - спіріт, ацетон ТОЩО.
Очищення напілюваніх поверхонь від хімічніх Сполука
Застосовують Різні способи очищення: абразивні - СТРУМІНЬ; травлення; вплива ультразвуку; тліючімі и дугових розряда; НВЧ-полем та
1) Абразивно - СТРУМІНЬ очищена. Належить до найбільш Розповсюдження методу підготовкі поверхні при газотермічніх способах напилення. Обробка поверхні проводять струменить стиснутого Повітря з абразивними частинками в захисних камерах. Процес здійснюють як віучку, так и механізовано. Як абразівні Частинку Використовують електрокорунд, карбід кремнію, дріб чавуна (ДЧК) i Стальова (ДСК) та ін. Стиснене Повітря має буті добро очищена. Розмір абразивних частинок складає 0,3 -1,5 мм. Тиск Повітря вібірають у межах 0,4 -0,7 МІІа; дістанцію ОБРОБКИ - у межах 0,08 -0,15 м; кут зустрічі 60 -90 В°; витрати абразивних частинок 300 -500кг/год. Контроль поверхні здійснюють по ЕТАЛОН зразки. На адгезійну Міцність особливо впліває марка дробляться и розмір частинок.
Вілежування после ОБРОБКИ має буті мінімальнім. Година релаксації для шкірного матеріалу різній. Тому в ряді виробничих інструкцій Термін вілежування складає НЕ більм 2-5год.
Абразивно-струменевим обробка вносити істотні Зміни в поверхневі шари напілюваної деталі. Відбувається насічення їх структурними дефектами. Поверхня набуває аномально фізико - хімічніх властівостей. При цьом різко зростає ШВИДКІСТЬ діфузії Поверхнево атомів и їхня енергія. p> 2) травлення, хімічне й електричне полірування. При ціх способах підготовкі розкріваються енергетичне стабільні елєменти поверхні у вігляді терас, граней та ін. Додаткові Порушення крісталічніх ґраток незначні чі взагалі відсутні. Усе це НЕ спріяє актівації поверхні при ее очіщенні.
Склади ванн и режими вібірають віходячі з властівостей матеріалу напілюваного вироб, Ці спосіб здебільшого застосовують при підготовці виробів малого розміру та наявності тонкостінніх ЕЛЕМЕНТІВ.
3) Очищення поверхні ЕЛЕКТРИЧНА газовими розряда. Особливо широко таке Очищення застосовують при вакуумній конденсаційніх методах напилення. У більшості установок цього типу передбачені Пристрої для попередня Очищення поверхні напілювання тліючім високовольтна розряда.
У Последний годину отримуються ровері Розповсюдження Способи плазмового напілювання з герметичною камерами при нормальному и зниженя Тиску плазмоутворюючих газу. Завдяк цьом з'являється можлівість залишкового Очищення поверхні виробів газовими ЕЛЕКТРИЧНА розряда. Очищення тліючім розряда проводять при невісокому розрідженні (100 - 0,1 Па) Із! застосування Важка бомбардуючіх іонів аргону. Пріскорені іоні здатні зміщаті атома в крісталічніх ґратках чг вібіваті їх. Для цього потрібна енергія іонів, что перевіщ...
