ння, висуваються такі вимоги: тиск пари матеріалу при температурі випаровування речовини повинен бути нехтує мало, між матеріалами нагрівача і випаровується речовини не повинно відбуватися ніяких хімічних реакцій, а також не повинні утворюватися легколетучие сплави цих речовин, так як в Інакше відбувається забруднення наносяться плівок і руйнування підігрівачів.
Для напилення плівок використовують різні матеріали. До основних матеріалів належать металеві покриття (алюміній, золото, цинк, мідь, кремній, срібло, хром і ін), керамічні покриття, оксидні матеріали, нітриди різних матеріалів, сплави (наприклад, NiCr, CrNiSi), хімічні сполуки (силіциди, оксиди , бориди, карбіди та ін), скла складного складу (наприклад, I 2 Про 3, В 2 Про 3 , SiO 2 , Аl < span align = "justify"> 2 Про 3, СаО, Та 2 О, В 2 Про 3 , I 2 Про 3 , GeO 2 ). Плівки можуть бути аморфними (стеклообразнимі, наприклад оксиди, Si), полікристалічними (метали, сплави, Si) або монокристалічними (наприклад, напівпровідникові плівки, отримані молекулярно-променевої епітаксії). Для впорядкування структури та зменшення внутрішніх механічних напружень плівок, підвищення стабільності їх властивостей і поліпшення адгезії до поверхні виробів відразу ж після напилення без порушення вакууму виробляють отжиг плівок при температурах, кілька перевищують температуру поверхні при напиленні. Часто за допомогою вакуумного напилення створюють багатошарові плівкові структури з різних матеріалів.
В установці використовують такі гази:
аргон призначено напилення міді, хрому, нікелю;
кисень призначений для очищення підкладок у ВЧ-плазмі й напилювання оксидів в сукупності з аргоном;
азот, для напилення нітридів різних матеріалів.
Установка вакуумного напилення складається з трьох основних структурних одиниць.
. Вакуумна камера, в якій проводиться нанесення тонких плівок. p align="justify">. Засоби створення вакууму - форвакуумний насос і дифузійний паромасляних насос з водної та азотної пастками. p align="justify">. Засоби управління процесами напилення і...
