Зміст
Введення
. Аналіз завдання на проектування
. Огляд сучасного обладнання для отримання тонких плівок
.1 Встановлення вакуумного напилення тонких плівок
.2 Трикамерна вакуумна установка нанесення тонких плівок з напівбезперервним циклом роботи
.3 Вакуумна установка безперервної дії
. Аналіз методів нанесення тонких плівок
. Аналіз матеріалів і конструкцій магнетронів для іонного розпилення тонких плівок
. Призначення, основні конструктивні елементи робочої камери установки В«Ораторія-5В»
.1 Призначення
.2 Основні конструктивні елементи
. Порядок підготовки установки до роботи
. Основні несправності та методи їх усунення
. Розрахунок часу відкачки шлюзу
. Заходи з охорони праці
Висновок
Література
Введення
Друга половина XX в. була ознаменована прискореним розвитком вітчизняної науки, техніки і виробництва в найбільш важливих для країни напрямах, серед яких особливе місце належало електронній техніці.
Особлива роль у розвитку електронних технологій належить вакуумній техніці, яка використовується і як робоче середовище електровакуумних приладів різного призначення, і як засіб для здійснення найскладніших фізико-технологічних процесів сучасної твердотільної електроніки, що протікають у високому і надвисокому вакуумі на молекулярному та атомному рівні з використанням енергетичних потоків електронів, іонів, плазми, нейтральних атомів і ін
Ці процеси широко використовуються для осадження покриттів з молекулярних і сепарованих іонних пучків, розмірної обробки остросфокусірованнимі потоками електронів та іонів, іонного легування, вирощування надтонких структур методом молекулярно-променевої епітаксії та інших процесів.
У виробництві ІС вакуумним нанесенням тонких плівок можна отримувати провідники та контактні площадки, тонкоплівкові резистори, конденсатори, індуктивні елементи, діелектричні покриття і магнітні плівки, напівпровідникові структури ІС.
Основними характеристиками тонких плівок є їх структура, розмір зерна, чистота, адгезія до підкладки, механічні напруги, які визначаються параметрами технологічного процесу та обладнання для нанесення плівок. На якість тонких плівок впливають такі фактори, як якість матеріалу підкладки і її очищення, шорсткість і температура підкладки, чистота вихідного матеріалу, швидкість осадження, парціальний тиск залишкових газів в робочій камері, взаємне розташування і відносне переміщення джерела і приймальні...
