захисту (автоблокування, аварійна вентиляція);
- максимальна утилізація виробничих відходів;
- скорочення водоспоживання та водовідведення, широке використання оборотного і повторного водопостачання;
- уловлювання, рекуперація та очистка технологічних викидів;
- контроль за точним дотриманням технологічного регламенту виробництва і за роботою контрольно-вимірювальних приладів, автоматичних систем управління технологічним процесом ПХТ.
Для підтримки ООС, необхідно будівництво і введення в дію нового обладнання з переробки відходів виробництва, підвищення ефективності існуючих природоохоронних споруд, а також профілактичні та капітальні ремонти газопилеулавлівающіх споруд.
Висновок
У процесі виконання дипломної роботи був проведений аналіз літературних джерел в частині особливостей проведення плазмових методів травлення технологічних шарів, а так само розглянуті гази для травлення різних технологічних шарів.
У технологічному розділі описаний процес травлення алюмінію і контроль якості, а так само види браку, що виникають при цьому процесі. Крім того розглянуто пристрій і принцип дії установки для плазмохімічного травлення LAM690.
В експериментальній частині описані результати досліджень з оптимізації режиму травлення. Вибрані оптимальні потужність, витрата газу для травлення, а так само визначено оптимальний термін зберігання пластин від задубліванія до травлення. Дані умови проведення процесу травлення забезпечують мінімальний догляд лінійних розмірів елементів і мінімум дефектності.
У розділі Охорона праці та навколишнього середовища розглянуті небезпечні та шкідливі фактори, що виникають на даній операції і заходи їх попередження.
В економічній частині було проведено техніко - економічне обґрунтування запропонованої оптимізації.
Список використаних джерел
1.Данілін Б.С., Кірєєв В.Ю. Застосування низькотемпературної плазми для травлення та очищення матеріалів. М .: Вища. 1987. - 264с.
. Іванівський Г.Ф., Петров В.І. Іонно-плазмова обробка
матеріалів. М .: Радио и связь. 1986. - 232 с.
. Черняєв В.Н. Фізико-хімічні процеси в технології РЕА. М.:
Вища школа. 1987. - 376 с.
. Кірєєв В. Ю., Данілін Б. С., Кузнєцов В. І. Плазмохимическое і іонно-хімічне травлення мікроструктур. М .: Радіо і зв'язок, 1983. 128 с.
. Плазмові процеси у виробництві виробів електронної техніки. В3-х т. Том2/А.П. Достанко, С.В. Бордусов, І.В. Свадковський та ін .; За заг. ред. А.П. Достанко.- Мінськ: ФУАінформ, 2001. - 244 с.
. Плазмова технологія у виробництві НВІС./Под ред. Н.Айнспрука, Д.Брауна. Пер. з англ. М .: Світ. 1987. - 470 с.
