ня.
ФОРМУЛА ВИНАХОДИ
1. Спосіб відновлення зношенихенних втулок підшипників ковзання, що включає завантаження порошку в порожнину між інструментом і внутрішньою поверхнею втулки, напресування, спікання порошку і радіальну роздачу втулки, що відрізняється тим, що напресування і роздачу втулки здійснюють одночасно в кондуктора впливом інструменту на порошок перед спіканням.
. Спосіб за п.1, що відрізняється тим, що напресування і роздачу здійснюють інструментом, виконаним з матеріалу з ефектом пам'яті форми, шляхом нагрівання його до температури зворотного мартенситного перетворення.
. Спосіб за п.1, що відрізняється тим, що внутрішній діаметр кондуктора виконують відповідним номінальним зовнішнім діаметром втулки.
Патент, опублікований у 2000 році кількома вченими: Коваль Н.М.; Толкачов В.С.; Щанін П.М. Його опис представлено нижче [8].
Винахід відноситься до технологій нанесення зміцнюючих, захисних та декоративних покриттів на вироби з металу, скла та кераміки для додання їм різних функціональних властивостей і колірних відтінків. Винахід може бути використано в пристроях для фінішного очищення та активації поверхні виробів перед нанесенням покриттів і іонного асистування в процесі напилення покриттів у вакуумі. Отримувані за пропонованим способом композиційні покриття можуть бути використані в різних галузях промисловості для зміцнення деталей, збільшення їх корозійної стійкості та зносостійкості.
Відомий спосіб нанесення покриттів на вироби з використанням магнетронного розряду, що створює в атмосфері робочого реакційноздатного газу потоки плазми і потоки атомів матеріалу мішені, а також джерела з розрядом в схрещених електричному і магнітному полях з утворенням спрямованого іонного потоку. При такому способі продуктивність процесу нанесення покриття, очищення і активацію поверхні виробів забезпечує іонний джерело, і якість покриттів залежить отего параметрів: струму розряду (Iр=3 А) і енергії іонів в потоці плазми (E=25 - 700 еВ). Максимальна швидкість нанесення покриттів лежить у вузькій області тисків 0,1 - 0,3 Па.
Розширити діапазон тисків без втрати швидкості нанесення покриттів не вдається внаслідок низької концентрації плазми, що генерується іонним джерелом і залежить, в основному, від розрядного струму, який зменшується з пониженням тиску аж до згасання розряду при тиску < 0,1 Па. З іншого боку, навіть при незначному перевищенні розрядного струму іонного джерела над розрядним струмом магнетронного джерела, складовим кілька ампер, спостерігається неузгодженість генерованої ним потоку газових іонів з потоком атомів мішені магнетронного джерела. Це веде до погіршення якості композиційних покриттів, проявляющемуся в порушенні їх стехіометрії і розпушенні структури [8]. При збільшенні розрядного струму (> 10 А) розряд в іонному джерелі переходить з дифузійної в контрагірованную форму горіння з утворенням катодного плями. Такий режим роботи є аварійним для іонного джерела, т.к. призводить до сильної ерозії його електродів і неконтрольованого запиленію підкладки. Крім того, при такому методі обробки очищення та активація поверхні виробів відбувається лише в зоні спрямованого іонного потоку, що не дозволяє обробляти великогабаритні деталі і вироби складної форми, а при великих токах розряду в таких системах, внаслі...
