алюється кільцевої аномальний тліючий розряд (темна область). В якості плазмообразующего газу використовується аргон, який подається в зазори між катодом і анодами. У плазмі розряду відбувається іонізація атомів аргону і утворюються позитивні іони бомбардують мішень-катод. Під дією іонного бомбардування електрони емітовані з катода захоплюються і утримуються магнітним полем. У цьому полягає найголовніша відмінність від диодной системи.
Опис технології аргоновою плазми. Основними елементами магнетронній розпилювальної системи є катод-мішень, анод і магнітна система, причому поверхня мішені розташовують між місцями входу і виходу силових ліній магнітного поля.
При подачі постійної напруги між мішенню (негативний потенціал) і анодом (нульовий потенціал) виникає неоднорідне електричне поле і збуджується аномальний тліючий розряд (аргонове плазма). Тиск аргону в області розряду становить 0,1-0,5 Па.
Наявність замкнутого магнітного поля у розпилюється поверхні мішені дозволяє локалізувати плазму розряду безпосередньо біля поверхні мішені.
Витрата аргону. Один балон аргону вистачає на 900 технологічних циклів. При вихідному тиску 150 атм і його ємності 40 літрів, в ньому знаходиться 6000 літрів газу. У кожному технологічному циклі аргон витрачається при послідовному нанесенні ніобію і молібдену. Ніобійевий катод вистачає на 200 циклів, молібденовий - на 20 циклів.
Час напилення молібдену 45 хвилин на першому циклі і 90 хвилин на останньому 20 циклі. Зміна часу монотонне і середній час напилення ніобію можна вважати рівним - 67,5 хвилини. Крім того, при експлуатації одного балона аргону молібденовий катод міняють 45 разів.
Середній час напилення і подачі аргону в кожному технологічному циклі складає 22,5 +67,5=90мінут.
За кожен технологічний цикл витрачається 6000:900=6,667 літрів аргону. При його середньої швидкості витрати 6,667:90=0,074 л / хв.
Швидкість подачі аргону. Витрата аргону не фіксуються приладами за величиною, а регулюється автоматично. Наприклад, встановлюється величина струму розряду рівна 12А при напрузі розряду 420В. Напруга розряду стабілізує джерело живлення, а сила струму розряду залежить від тиску аргону в камері. Тиск аргону в камері напилення може довільно змінюватися, тому що постійно діють вакуумні насоси, працює електричний розряд, відбувається випаровування металу. Це в свою чергу призводить до зміни струму розряду. Тому струм розряду стабілізується шляхом автоматичного зміні натекания аргону. Наприклад, ток падає, натікання аргону автоматично збільшується, тиск у камері підвищується, величина струму відновлюється і навпаки.
Умови напилення (швидкість подачі аргону, нагрів, вольт-амперна характеристика, потужність магратрона і т.д.) для титану відрізняється від молібдену, тому ми просимо роз'яснити характеристики напилення для кожного випадку.
Основні умови напилення ніобію і молібдену однакові:
обертання касети - 10 об / хв., обертання подложкодержателя - 40 об / хв.;
вакуум в камері напилення - 6,65 ... 2,66 * 10 - 1 Па;
температура підігріву підкладки - 500 0 С і більше (500);
струм розряду - 10 ... 12А (12А);
...
