напруга розряду - 400 ... 450В (420В);
Відрізняється час розряду (напилення). Для напилення ніобію - 15 хвилин, для молібдену - 45 хвилин. До кінця терміну служби катодів, тобто по мірі їх вироблення час напилення збільшується до 30 і 90 хвилин відповідно. При цьому товщина напиляного шару ніобію згідно ТУ - 0,5 ... 1,5 мікрон, а молібдену - 8 .. 18мікрон. Термін служби катода ніобію - 200 циклів, молібдену - 20ціклов.
Опис технології отримання вакууму і необхідність вакууму для процесу напилення та принцип його регулювання
Властивості напилюваних плівок (зернистість, електропровідність, пористість, адгезія) дуже сильно залежать від ступеня вакууму в робочому просторі.
Умов для цілеспрямованого руху розпорошених атомів на поверхню підкладки в даному випадку немає. Для цього необхідно виконання двох факторів:
1) Потік розпорошених частинок повинен складатися з позитивно заряджених іонів матеріалу мішені.
) На підкладці необхідно мати негативний потенціал.
Опис процесу нагрівання підкладки до 500 0 С. Міцність зчеплення (адгезія) покриття з підкладкою є однією з основних характеристик якості металізованих виробів.
Основна особливість процесу утворення зчеплення між металевою плівкою, обложеної з парової фази у вакуумі, і керамічної підкладкою, наприклад, з оксиду берилію, полягає в тому, що взаємодія між цими матеріалами має відбуватися у твердій фазі. Відомо, що оксид берилію є надзвичайно хімічно інертним через міцного зв'язку між атомами кисню та берилію.
Тому, для подолання бар'єру і здійснення зв'язку між атомами металу і оксиду берилію необхідно створити енергетичні умови розриву зв'язку кисень-берилій з утворенням невідшкодованою вільної електронного зв'язку та здійснити «захоплення» цьому зв'язку атомом металу, схильним до електронно-обмінній взаємодії.
В цілому, ефективність роботи магнетронній розпилювальної системи залежить від правильного вибору робочих параметрів, а стабільність цих параметрів визначає сталість швидкості розпилення і відтворюваність властивостей одержуваних плівок.
Необхідна швидкість осадження плівок з достатньою точністю може підтримуватися за рахунок сталості таких параметрів розряду як струм або потужність, що підводиться.
Якщо ці умови виконуються, то управляти кінцевої товщиною плівки можна шляхом завдання часу осадження, що й робиться на використовуваних установках напилення.
Лекція: «Фізичні основи магнетронних розпилювальних систем»
Питання теорії розряду в?? Агнетронних розпилювальних системах і методи розрахунку їх технологічних і конструктивних параметрів до теперішнього часу опрацьовані слабо. Складність полягає в тому, що в цих системах використовуються неоднорідні схрещені електричне і магнітне поля, причому електричні параметри розряду в значній мірі залежать від робочого тиску, величини і конфігурації магнітного поля, конструктивних особливостей розпилювальної системи. Все це робить складним точний аналітичний опис явищ, що відбуваються в розряді магнетронній системи.
Сутність процесу та основні параметри
Магнетронниє системи відносяться до систем розпилення діодного типу, в...
