ню покриття, розпріділення атомів має буті рівномірнім. У тій же годину з експеріментів слідує, что розпріділення концентрації ЕЛЕМЕНТІВ по площіні покриття є нерівномірнім.
Для описах розвитку МДО - покрить можна застосовуваті Загальні рівняння масопереносу и рівняння, Які опісують ріст композиційних електрохімічніх покрить (КЕП), Однак при цьом звітність, враховуваті більш складаний природу мікроплазменніх процесів та Ізоляційні Властивості нанесенням покрить.
У даній работе модель зростання МДО - покрить Доповнено врахування особливая включенням частинок їх Розчин.
МОДЕЛІ РОСТУ ПОКРИТТЯ
После Формування на поверхні металу бар'єрного шару напруженість електричного поля на границі розділу почінає збільшуватісь и при перевіщені Значення діелектрічної міцності плівкі проходити ее Пробій. При цьом утворюється іскровій розряд локальності електронною температурою до 10000 0 C, лещата в якому досягає 1800 атм. Частина металу з области розряду вікідається на поверхню та взаємодіє з електролітом.
осадженим Частинок Зх приелектродного ШАРУ. p> При проходженні електричного Струму на поверхні зразки (анода) проходити віділення водний за Реакції:
2H 2 O +2 e H 2 + 2OH, (1)
внаслідок чого проходити підлужування електроліту в приелектродному шарі. Зміна кіслотності електроліту виробляти до Утворення в приелектродному шарі частинок облогу з металу, Який викинути в розчин з области дугового розряду. При взаємодії приелектродного кулі з водою утворюються колоїдні Частинку беміту або гідроксиду:
Zr +2 H 2 OZrOOH +1/2H 2 , (2)
Zr +2 +2 OH - Zr (OH) 2 , (3)
Які мают визначеня заряд. Слід відмітіті, что насправді біля та на поверхні анода можливе протікання и багатьох других реакцій, Реакції (1) - (3) віділені як найхарактерніші І, Які візначають ріст покриття.
Отже, мікроплазменній режим зростанню оксидного покриттів веде за собою Утворення в пріелектродній зоні електроліту оксидного з'єднань Zr та других прісутніх в ньом хімічніх ЕЛЕМЕНТІВ. Перенесення частинок, Які утворен в пріелектродній ділянці, вінікає по лініях максімальної напруженості електричного поля, Які пов'язані з порами та тріщінамі. Дісперсні Частинку попадають у внутрішню область пір та тріщін, де встановлюються в покриття под дією плазмового розряду, что віклікає нерівномірність покриття за складом.
з'явиться тріщін знімає Частину внутрішніх механічніх напруженного в покрітті. Зарощування тріщін є можливіть за рахунок електрохімічного окислених цірконію, при цьом формується щільне стабільне покриття з низько рівнем внутрішніх напруженного.
Таким чином, для Отримання Достатньо Товста та якісніх покриттів звітність, регулюваті Процеси Утворення пір та тріщін в покрітті та створюваті умови для електрохімічного зарощування дефектів на кінцевій стадії процеса зростанню покриття.
СИНТЕЗ ОКСІДОКЕРАМІЧНІХ покриттів
Утворення оксідокерамічніх покриттів на вентильних металах в Системі "метал - електроліт" под дією зовнішнього електричного поля Складається з кількох етапів. Перший етап - Формування первинної оксідної плівкі за електрохімічнім механізмом. Особлівістю анодної поведінкі вентильну металів є відсутність актівної ділянки розчінення, что зумовлено їх електронною Будовий. У системах "метал-електроліт" смороду віддають d-Електрон та перетворюються в іоні з перебудованімі d -рівнямі. Ці іоні вступають у Реакції з розчіненім в електроліті кисни, радикалами OH або водою, утворюючі поверхневі оксидні плівкі. Анодні оксидні плівкі є анодні та безпорісті, мают іонну провідність и високий електричний Опір. Їх класіфікують як n -напівпровіднікі з широкою Заборонений зоною. Через пасивні шари на вентильних металах Електрон що не переносять. Єдиною реакцією на аноді под напругою до 100 В є анодним ріст оксиду. При цьом перенапруга Утворення оксиду Менша від напруги Розкладу електроліту. Колі вона досягається, проходити інжекція електронів в оксидний шар и на аноді почінає віділятіся Кисень. Так настає другий етап Формування іскрового розрядно каналу в Системі "Метал-оксид-електроліт". Перелогових від матеріалу електроду та природи міжелектродного проміжку Механізми пробою та параметри розрядно каналу могут буті Різні. У випадка реалізації іскрового розряду в Системі "метал-оксид -Електроліт "під дією постійного електричного поля анодом служити метал, а катодом - електроліт. Міжелектродній проміжок Складається з оксиду та Подвійного електричного кулі на границі оксид - електроліт. Основний спад потенціалу пріпадає на оксидний прошарок, у якому напруженість електричного поля висока. Останній етап характерізується зростанням покриття, при якому відбуваються поліморфні Перетворення.
Вже при напруженості електричного поля порядку 10 5 ...
