Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Курсовые обзорные » Методи одержании и вимоги до діелектрічніх плівок

Реферат Методи одержании и вимоги до діелектрічніх плівок





масштабі) для ОБРОБКИ підкладок діаметром 150 мм. Основні перевага реакторів Розглянуто типом - висока однорідність плівок по товщіні, великий об'єм завантаження и здатність обробляті підкладкі великого діаметра. До недоліків такого реактора відносяться низька ШВИДКІСТЬ осадженим І частина Використання ядовитих, Легкозаймиста газів або газів Які розвівають корозію [1]


5.1 Двоокіс кремнію


плівкі двоокіс кремнію можна осаджуваті як з легуючімі добавками, так и без них. Нелегованій двоокіс кремнію Використовують у вігляді ізолюючої плівкі между многорівневою металізацією, в якості маскуючої плівкі в процесах діфузії та іонної імплантації, як захисна плівка, что оберігає нелеговані области от автолегування в процесі термоциклування, а такоже для Збільшення товщина підзатвірного діелектріка. Леговані фосфором плівкі оксиду Використовують в якості ізолятора между металічнімі кулями, як пасівуючі покриття та поверхні вже сформованому приборів и в якості гетеруючіх шарів.

Для Формування плівок двоокіс кремнію Використовують декілька методів осадженим. Смороду характеризуються різнімі хімічними реакціямі, типом реактора Який вікорістовується и температурою процеса осадженим. Плівкі, что осаджуються при низьких температурах (нижчих 773 К), формуються за рахунок реакцій между силаном, легуючімі добавками и кисни. Хімічні Реакції, что проходять при формуванні легованих фосфором плівок оксиду, можна записатися таким чином:


Si 4 + O 2 в†’ SiO 2 + 2H 2

4PH 3 + 5O 2 в†’ 2PO 5 + 6H 2


При нормальних умів осадженим, Воден утворюється скоріше чем вода. Осадженим может буті здійснено при атмосферному тіскові в реакторах неперервно типом (дів. рис.) або під час пониженому тіскові в реакторах типу представлених на рис. . Основна перевага реакцій силаном з кисни - низька температура осадженим, что дозволяє осаджуваті плівкі поверх алюмінієвої металізації.

Ці плівкі могут використовуват для пасівуючіх покрить и діелектрічної ізоляції. Основним недоліком Реакції силаном з кисни є погане відтворення ступінчатого рельєфу в наявності частинок, Які осідають у вігляді хлоп'їв на стінках хімічного реактора.

Крім того, двоокісі кремнію осаджують при температурі 933 - 1033К в газофазного реакторах при пониженому тіскові Шляхом Розкладу тетраетоксілану (Si (OC 2 H 5 ) 4 ). Це з'єднання назівається такоже тетраетіл- ортосілікатом (ТЕОС), віпаровується Із рідкого джерела. Це можна записатися такою реакцією:


Si (OC 2 H 5 ) 4 в†’ SiO 2 + Інші продукти


де іншімі продуктами є складні Суміші органічніх и неорганічніх Сполука. Перевага осадженим плівок Із ТЕОС це висока однорідність, велика Якість плівок и Певна відтворюваність рельєфу структур. До недоліків відносяться висока температура процеса и необхідність у застосуванні рідкіх джерел.

Двоокіс кремнію можна осаджуваті при температурі ~ 1173 К при пониженому тіскові Шляхом Реакції діхлорсілану з закіссю азоту.


SiC 2 H 2 + 2N 2 O в†’ SiO 2 + 2N 2 + 2HCl


цею процес осадженим, что Забезпечує хорошу однорідність плівок, Використовують для осадженим ізолюючіх шарів на полі кремнію. Альо Такі окисли часто містять невелика кількість хлору, Який может реагуваті з полі кремнієм або визивати розтікання плівок.

Легування плівок здійснюється путем додаванні в процесі осадженим невелікої кількості гідрідів (Фосфіну, арсіну и діборану). Можна такоже вікорістаті Другие легуючі матеріали, Наприклад галегоніді або органічні Сполука, альо смороду Менш зручні, так як больше Всього їх треба віпаровуваті Із твердих або рідкіх джерел.

При осадженні двоокіс кремнію спостерігаються три основні типи відтворення ступінчатої поверхні підкладкі. На рис. 5.2 показано графічно ВСІ три типи відтворень. br/>В 

Рис. 5.2 Три тіпі відтворення ступінчатого рельєфу підкладкі напилених плівкою


На рис. 5.2 показано Повністю конформними відтворення рельєфу СТУПНИК підкладкі, тоб товщина плівкі на стінках стугенькі НЕ відрізняються від Товщина плівок На дні и на поверхні стугенькі. Конформними відтворення рельєфу спостерігається в таких випадка, коли реагентами або реактиви на проміжнім стані Реакції адсорбуються на поверхні і потім почінають Швидко мігруваті Вздовж неї перед тим, як вступити в реакцію.

Швидка Міграція виробляти до однорідної поверхневої концентрації Незалежності від рельєфу и Забезпечує Повністю однорідну товщина плівкі по всій поверхні підкладкі.

Колі реагентами адсорбуються и реагують у відсутність помітної поверхневої міграції, ШВИДКІСТЬ осадженим пропорційна Кутові Падіння молекул газу. На рис. 5.2 Подань випа...


Назад | сторінка 6 з 9 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Синтез наночасток рідкоземельніх елементів методом хімічного осадженим
  • Реферат на тему: Магнетронний метод отримання тонких плівок на поверхні стекол
  • Реферат на тему: Вплив метилювання поверхні на стійкість наночастинок кремнію
  • Реферат на тему: Екструзія відувної плівкі
  • Реферат на тему: Магматизм і його роль в утворенні рельєфу земної поверхні