илікагелем не більше трьох сутіок або не більше сорока діб з моменту напилення в шафі із захисною середовищем.
5 Товщина адгезійного підшару повинна бути від 0,03 до 0,08 мкм. p> 6 Товщина напиляного шару міді на лицьовій стороні підкладки повинна бути від 0,00 до 0,00 мкм.
7 При проведенні технологічних операцій, підкладки слід брати пінцетом на відстані не більше двох іпллметров від краю.
Таблиця 3 - Дані по технологічних процесах напилення резистивних шарів
Напилюваний матеріал
Метод напилення
Режими напилення
Температура прогрівання підкладок до напилення, (Вє С)
Попередній вакуум до нагріву, (мм.рт.ст.).
Тиск в камері при напиленні, (мм.рт.ст.).
Час напилення на заслінку, (хв).
Швидкість обертання барабана (каруселі), (об/хв).
Температура стабілізації резистивного шару, (Вє С)
Час стабілізації резистивного шару, (хв)
Температура підкладки при розгерметизації камери, (Вє С)
РС-3710
Іонно-плазмовий
190-210
2.10 -5
(4,5-7,5) В· 10-4
10-15
50-100
190-200
15
75-85
РС-3710
Термічний
300-320
5.10 -5
до 5.10 -5
0,25
50-100
300-320
15
300-320
Хром
Термічний
290-310
5.10 -5
до 5.10 -5
0,25
50-100
290-310
15
75-85
Ніхром
Термічний
290-310
5.10 -5
до 5.10 -5
0,25
50-100
290-310
15
75-85
МНКБ
Іонно-плазмовий
190-210
2.10 -5
(4,5-7,5) В· 10-4
15
50-100
190-210
15
75-85
Основні дані по технологічних процесах напилення резистивних шарів наведені в таблиці 3.
Основні дані по технологічних процесах напилення провідних шарів наведені в таблиці 4.
Напилюваний матеріал
Метод напилення
Режими напилення
Температура прогрівання підкладок до напилення, (Вє С)
Попередній вакуум до нагріву, (мм.рт.ст.).
Тиск в камері при напиленні, (мм.рт.ст.).
Час напилення на заслінку, (хв).
Швидкість обертання барабана (каруселі), (об/хв).
Температура стабілізації резистивного шару, (Вє С)
Час стабілізації резистивного шару, (хв)
Температура підкладки при розгерметизації камери, (Вє С)
Хром
Термічний
290-310
1.10 -5
до 5.10 -5
0,25
50-100
290-310
15
75-85
Мідь
Термічний
290-310
5.10 -5
до 5.10 -5
0,25
Схожі реферати:
Реферат на тему: Магнетронного напиленняРеферат на тему: Вакуумне напилення Реферат на тему: Оптимізація процесу напилення матеріалу в магнетронній системі розпилення Реферат на тему: Автоматизований електропривод механізму маніпулятора установки напилення мі ...Реферат на тему: Антикорозійний захист медичних виробів з використанням технологій плазмовог ...
|
Український реферат переглянуто разів: | Коментарів до українського реферату: 0
|
|
|