gn=top>
50-100
290-310
15
75-85
Нікель
Термічний
190-210
2.10 -5
до 5.10 -5
15
50-100
190-210
15
75-85
Примітка - 1 - Режими операцій напилення уточнюються технологом ділянки при пробному напилюванні
2 - Розплавлювання і знегажування міді проводяться до напилення хрому
3 - Розрив у вре6мені між закінченням напилення хрому і початком напилення міді не більше півтора хвилин
4.4 Технічні дані
1 Кількість матеріалу, що розпорошуються за один технологічний цикл:
іонним розпиленням -2
Електроннопроменеві напиленням -3
2 Кількість одночасно напилюваних підкладок за один технологічний цикл:
керамічних (36x24x1, 2) з висновками - 90 шт.
сіталових (60x48x0, 5) -50 шт.
3 Граничний вакуум в робочій камері 5.10 -6мм.рт.ст.
4 Час отримання вакууму 5.10 -6мм.рт.ст. - 90 хв (при розігрітому паромасляних насосі).
5 Робочий вакуум:
при Електроннопроменеві напилюванні 8.10 -6мм.рт.ст.
при іонному розпиленні (з струмом мішені
не більше 250 А) 5.10 -4мм.рт.ст.
6 Напуск газу і стабілізацію тиску в робочій камері в діапазоні 6.10 -4мм.рт.ст. до 3.10 -4мм.рт.ст.
7 Робочий газ при іонному розпиленні - аргон.
8 Кількість мішеней - 2.
9 Постійна напруга на мішені в режимі іонного розпилення ~ 0 ... 3 кВ.
10 Струм мішені при розпиленні постійним струмом
0 ... 400 А
11 Нагрівання барабана з підкладкою до температури 3500С і стабілізація його температури в діапазоні 100 ... 3500С
12 Швидкість барабана:
мінімальна - 2 об/хв;
максимальна -20 об/хв.
13 Режими роботи установки:
ручний;
автоматичний з управлінням за часом; автоматичний за часом з контролем параметрів напилюваних шарів;
управління установкою від засобів АСУТП.
14 Живлення установки УВН-75П-1 здійснюється від мережі змінного струму напругою 380В, частота 50 Гц.
15 Електрична потужність, споживана установкою при сталому режимі не більше 33 кВт.
16 Для експлуатації установки необхідні наступні види живлення:
вода холодна - температура 15 + 10 В° С, тиском 2 ... 4 кгс/см2; витрата 650 л/год;
вода гаряча - температура 80 ... 90 В° С, тиском 2 ... 4 кгс/см2; витрата 250 л/год.
4.5 Принцип роботи установки УВН-75П-1
1 Робота установки УВН-75П-1основана на розпиленні проводить матеріалу мішені постійним іонним струмом і термічне випаровуванні матеріалу з електронних випарників з кільцева катодами. Нанесення матеріалів методом іонного розпилення відбувається на зовнішню сторону барабана з підкладками, в нанесення матеріалів методом термічного-на внутрішню. Підкладки знаходяться з обох сторін барабана і повертаються після нанесення плівки на 1800, потім наноситься плівка на інший бік барабана.
2 На установці забезпечуються в ручному та автоматичному (З управлінням за часом або за часом з контролем параметрів напилюваних шарів) режимах або при управлінні від засобів АСУТП такі технологічні операції:
відкачка камери робочої до тиску 6.10-6мм.рт.ст в ручному або автоматичному режимах;
напуск інертного газу в камеру робочу до тиску (6 ... 3) В· 10-4мм.рт.ст і ВЧ очищення підкладок (з напругою ВЧ 300 ... 500В);
очищення розпилюється мішені і нанесення плівок методом іонного розпилення матеріалу.
Харчування розпилюються пристроїв (напруження, анода, мішені) здійснюється від шафи живлення і управління;
відкачка робочої камери до тиску 6.10-6мм.рт.ст і нагрів барабана з підкладкою до температури 3500С;
розігрів першого випарника і нанесення плівок на підкладку методом термічного випаровування за часом;
розігрів другого і третього випарників і нанесення тонких плівок за часом або по приладу КСТ-1;
природне охолодження в вакуумі до 800С, напуск інертного газу і вивантаження касет вручну.
4.6 Схема установки УВН-75П-1
В
Рисунок 1 - Загальний вигляд установки УВН-75П-1: 1 - прилад іонізаційного контролю швидкості росту товщини плівок КСТ-1, 2 - прилад КС-2, 3 - Генератор, 4 - установка вакуумної відкачки УВН-70А-2, 5 - напрямна, 6 - камера робоча
Установка УВН-75П-1 (Малюнок 1) складається з базової моделі типу УВН-70А-2 поз.4, на якій змонтована камера робоча поз. 6, шафи управління поз.7, двох шаф харчування в управління поз.8, приладу іонізаційного контролю швидкості та товщини п...
