анізм ПЖК проявляється в тому, що освіта конденсованої фази на підкладці починається з появи на підкладці рідкої фази у вигляді крапель, які тривалий час існують на підкладці, після чого починається процес кристалізації. p align="justify"> Розглянуті механізми кристалізації визначають різні характери формування і росту плівки з парової фази, що в кінцевому рахунку визначає властивості плівок. Якщо конденсовані атоми пов'язані з собою сильніше, ніж з поверхнею нейтральної підкладки, вони вільно і досить інтенсивно мігрують з її поверхні. При досить високій щільності потоку испаряемого речовини на поверхні підкладки утворюються зародки кристалічної фази або рідкої конденсованої фази, які спочатку розростаються спочатку в двох, а потім і в трьох напрямках. Якщо ж сили взаємного зв'язку атомів або молекул конденсирующегося речовини менше сил їх зв'язку з підкладкою, різко зростає вплив кінетичних параметрів підкладки на процес формування плівки за механізмом ПК. p align="justify"> Слід зазначити, що механізм конденсації залежить (у першому наближенні) від співвідношення температур підкладки Tп і температур плавлення Tпл конденсуються речовин. При зміні Tп може змінитися механізм конденсації. При конденсації молекулярних пучків складного складу (наприклад, при нанесенні покриттів ізсплавов) механізм конденсації залежить і від складу парової фази. Після завершення формування суцільного шару закономірності подальшого зростання плівки визначаються не безпосередньо механізмом конденсації матеріалу, а в основному структурою первинно сформованих шарів. Технологічний аспект процесу конденсації відображає характер розподілу товщини плівки уздовж поверхні підкладки і розглядає вплив геометричних параметрів випаровування (розмірів і форми випарників і підкладки, їх взаємного розташування) і режиму металізації на рівномірність товщини покриття. p align="justify"> Для аналізу равнотолщінності використовують, як правило, ідеальну модель випаровування і конденсації, яка передбачає виконання законів Ламберта - КНУБА та формули Ленгмюра для швидкостей випаровування, а також повну конденсацію парів випаруваного речовини на підкладці (коефіцієнт конденсації дорівнює 1 незалежно від матеріалу підкладки і інтенсивності потоку випаруваного речовини). Процес випаровування відбувається з дзеркальної поверхні розплаву. p align="justify"> Якість формованих покриттів, технологічні можливості обладнання для напилення, техніка проведення процесу нанесення покриттів і ряд інших практичних питань багато в чому визначаються вибором матеріалу випарника (тигля) з урахуванням фізико-хімічних властивостей испаряемого речовини, а також можливих взаємодій испаряемого речовини з випарником. У літературі є відомості, що дозволяють підібрати не тільки матеріал випарника, але і найбільш оптимальну його конструкцію з урахуванням специфіки отримання покриттів конкретного функціонального призначення. p align="justify"> Технологічні параметри процесу нанесення покриттів в...
