Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Новые рефераты » Технологія та техніка виготовлення бескорпусной інтегральної мікросхеми

Реферат Технологія та техніка виготовлення бескорпусной інтегральної мікросхеми





меженням b техн, тобто

iпр=max {b розр. , B техн. },

bnp=max {242,}.


Ширина провідника вибирається рівної мкм.

Підставляючи значення bпр, |? Ri | і rsпр, отримуємо:


? iпр? 0,1 * 242 * 0,1 * Ri / 0,04


Для провідників R1:? 1пр? 60,5 · 1850=111925 мкм.

Для провідників R2:? 2пр? 60,5 · 10 100=611 050 мкм.

Для провідників R3:? 3пр? 60,5 · 13 610=823 405 мкм.

Для всіх провідників, достатньо прийняти довжину, рівну? пр=10 000 мкм.

Розрахунок орієнтовної габаритної площі Siпр провідників прямокутної форми проводиться за такою формулою:


Siпр =? iпр · biпр


Загальна габаритна площа SJпр всіх провідників на підкладці ІМС визначається за формулою:



де J - число провідників на підкладці, що з'єднують через контактні площадки елементи, компоненти і окремі контактні площадки.

SJnp=7 · (10 000? 242)=7 * 24200000мкм2=1,694 см2.

Розрахунок геометричних розмірів контактних майданчиків.

В плівкових і гібридних ІМС контактні площадки служать для забезпечення двох типів контактних переходів:

«низькоомних провідна плівка - низькоомних провідна плівка», тобто контакт «провідник - провідник»,

«резистивная плівка - низькоомних провідна плівка».

До першого виду контактів відносяться контакти типу «контактна площадка - обкладка конденсатора», « провідник - контактна площадка - провідник ».

Для першого типу контактів вибір довжини? пли ширини bпл контактних майданчиків здійснюється, виходячи з технологічних обмежень і вимог і вибираються рівними 500? 500 мкм.

Для другого типу контактів величина biпл (i - номер контактного майданчика, з'єднаної з i-м резистором) вибирається з урахуванням технологічних обмежень при суміщенні різних верств, тобто

iпл. =BRi. +2 · 200


Для контактних майданчиків R1: b1пл=bR1 + 2.200=308 +2 · 200=708 мкм.

Для контактних майданчиків R2: b2пл=bR2 + 2.200=245 +2 · 200=645 мкм.

Для контактних майданчиків R3: b3пл=bR3 + 2.200=242 +2 · 200=642 мкм.

Для всіх контактних майданчиків biпл вибирається рівним 710 мкм.

? iпл розраховується, виходячи з умови


Riпл? gRкRi / 2,


де Ri і Riпл - номінали опору i-го резистора і опір i-й контактної площадки відповідно; gRк - похибка перехідного опору області контакту резистор - контактна площадка, яка становить gRк? 2% (див. вихідні дані в табл. 1.1.1).

Використовуючи формулу

iпл=rsпл? iпл / biпл,


де rsпл=rsпр., отримаємо співвідношення для визначення? iпл.:


? iпл.? biпл.gRкRi / (rsпр · 2).


Для контактних майданчиків R1:? 1ПЛ? 710.0, 02.1850 / (0,04 · 2)=328375 мкм.

Для контактних майданчиків R2:? 2ПЛ? 710.0, 02.10100 / (0,04 · 2)=1792750мкм.

Для контактних майданчиків R3:? 3пл? 710.0, 02.13610 / (0,04 · 2)=2415775 мкм.

З урахуванням технологічних обмежень? iплвибірается з умови


? техн. ? ? Iпл. ? Biпл.gRк (Ri / rsпр) · 2

? ? Iпл. ? 328 375


Для всіх контактних майданчиків? пл вибираємо рівною 300 мкм.

Загальна площа SQпл, займана на підкладці контактними майданчиками, розраховується за формулою:



де Q - кількість контактних площадок.Qпл=...


Назад | сторінка 9 з 15 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Дослідження впливу форми контактних майданчиків на параметри виникаючих кол ...
  • Реферат на тему: Призначення і види ударно-контактних сповіщувачів
  • Реферат на тему: Маркетингові дослідження контактних лінз з поглибленим товарознавчим аналіз ...
  • Реферат на тему: Проектування виробничих норм для робочого процесу (монтаж сходових майданчи ...
  • Реферат на тему: Розрахунок провідників по постійному струму