ів металів використовують металеві катоди. Електродугове випаровування вельми продуктивно, але супроводжується утворенням металевого крапельної фази, звільнення від якої вимагає спеціальних конструктивних заходів. Цього недоліку позбавлений магнетронний варіант іонно-плазмового осадження, в якому мішень (катод) розпорошується за рахунок бомбардування іонами плазми газового розряду низького тиску, яка формується між катодом і анодом. Поперечний постійне магнітне поле локалізує плазму у розпилюється поверхні мішені і підвищує ефективність розпилення.
Таблиця 2 Основні методи отримання наноструктурвих плівок на основі тугоплавких сполук
Метод
Варіант методу
З'єднання
Фізичні методи
Термічне випаровування
Активований реактивне випаровування
Нітриди і карбіди
Електронно-променевої нагрів
Боріди і карбіди
Лазерна обробка
Нітриди і карбіди
Іонну осадження
Іонно-дугове розпорошення
Нітриди і карбіди
магнетрон розпорошення
Нітриди, карбіду, бориди
Іонно-променева обробка; імплантація
Нітриди та бориди
Хімічні методи
Осадження з газової фази
Плазмосопровождаемие і плазмоактівіруемие СDV-процеси
Нітриди, карбіду, бориди
Електронний циклотронний резонанс
Те ж
Термічне розкладання
Газоподібні і конденсовані прекурсори
Нітриди та бориди
На Малюнок 5 показана схема магнетронного розпилення з мішенню прямокутної форми, на поверхні якої в районі виходу і входу магн ітних силових ліній виникає В«доріжка розпиленняВ». Напилювані підкладки (на схемі не показані) розташовані над мішенню і для досягнення рівномірності плівок за складом і структурою піддаються обертанню.
магнетронного напилення вельми універсально, його можна застосовувати не тільки для металевих, а й для неметалевої мішеней (і, отже, для отримання відповідних плівок). При магнетронном напилюванні температури підк...
