Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Курсовые обзорные » Проект ділянки виготовлення чутливих елементів фоторезисторов на основі сульфіду кадмію

Реферат Проект ділянки виготовлення чутливих елементів фоторезисторов на основі сульфіду кадмію





ign="justify"> Гідрохімічне осадження проводиться в реакційній ванні, що включає сіль металу, лужний і Комплексообразующєє агенти і халькогенізатор. Процес утворення сульфіду реалізується через колоїдно-хімічну стадію і представляє сукупність Топохимічеськие і автокаталітіческіх реакції, механізм яких до кінця не вивчений. br/>

3. Застосування плівок на основі CdS


Тонкоплівкові сульфіди кадмію знаходять широке застосування як фотодетектори, фотолюмінесцентні матеріали, термоелементи, сонячні елементи, сенсорні матеріали, декоративні покриття, перспективні наноструктуірованние каталізатори.



4. Опис технології виробництва CdS


Технологічна схема виготовлення чутливих елементів фоторезисторов включає наступні операції:

1. підготовка підкладок (очищення, подтравленіе, промивка);

. хімічне осадження напівпровідникової плівки;

. промивка і сушка плівки;

. термообробка напівпровідникового шару під шаром шихти при 400? С протягом 2 годин;

. вакуумне нанесення Аі-контактів;

. скрайбірованіе;

. вихідний контроль параметрів чіпів ФР.


.1 Підготовка підкладок до осадження плівки


Осадження плівки проводиться на попередньо знежирені підкладки. Підкладки ретельно знежирюють содою, промивають водопровідною водою і після установки під фторопластове пристосування поміщають на 20 секунд в розбавлений розчин Деша для травлення поверхні з метою збільшення адгезії плівки. Після обробки в травителях Деша підкладки обполіскують великою кількістю підігрітою дистильованої води і до початку процесу зберігають у склянці під шаром дистильованої води. p align="justify"> Якість підготовки поверхні підкладки контролюють за ступенем її змочуваності: на ретельно підготовленої підкладці дистильована вода розтікається рівним шаром. Категорично забороняється брати знежирену підкладку руками. br/>

4.2 Хімічне осадження напівпровідникової плівки


В якості матеріалу підкладок для осадження плівок CdS використовується ситалл.

Для синтезу напівпровідникових плівок CdS використовуються наступні хімічні реактиви:

кадмій хлористий, CdCl 2 ? H 2 O;

тіосечовина, CSN 2 H


Назад | сторінка 4 з 9 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Дослідження впливу параметрів MOCVD-осадження на структуру, електричні і ма ...
  • Реферат на тему: Хімічне осадження з газової фази
  • Реферат на тему: Застосування електрохімічного осадження хрому в поліграфії
  • Реферат на тему: Моделювання міграції та осадження домішки на основі конвекційно-дифузійної ...
  • Реферат на тему: Матеріальний баланс виробництва тріацетатцеллюлозной плівки