Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Курсовые обзорные » Підготовка оптичного виробництва для виготовлення кругових шкал (лімбів)

Реферат Підготовка оптичного виробництва для виготовлення кругових шкал (лімбів)





В± 1,2 мкм. p align="justify"> На кресленнях лімбів мається крім ширини штрихів багато інших лінійних розмірів. Їх можна розділити умовно на критичні і некритичні розміри. Критичними є розміри, допуски на які близькі за своїми значеннями до допускам, які забезпечують технологічні процеси. Критичними розмірами можуть бути ширина обведення цифр, ширина обведення знаків, ширина центріровочнимі кола та ін Для них розподілення допусків для фотошаблонів проводиться так само, як і для ширини штриха. Допуски на некритичні розміри встановлюються таким чином: для робітників фотошаблонів допуски посилюються в 2 рази, допуски для фотошаблонів-оригіналів посилюються в 3 рази в порівнянні з допусками для лімба. У технічних завданнях допуски на критичні розміри треба вказувати конкретно для кожного фотошаблона і для кожного розміру, жорсткість допусків для некритичних розмірів вказується одночасно для всіх некритичних розмірів. Іноді в кресленнях лімбів вказуються несиметричні допуски. У цьому випадку, як для критичних, так і для некритичних розмірів необхідно вказувати конкретні допуски. p align="justify"> Специфічним лінійним параметром є нерівномірність ширини штрихів лімба. Як правило, вона не буває менше 0,4 мкм. Таке значення можна досягти тільки, якщо лімб і робочий фотошаблон виготовляються способом зворотного фотолітографії. У цьому випадку для робочого фотошаблона нерівномірність ширини повинна становити 0,3 мкм, а для фотошаблона-оригіналу - 0,2 мкм. Якщо значення нерівномірності ширини штрихів для лімба становить 0,3 мкм, то для робочого фотошаблона і фотошаблона-оригіналу слід встановити однакове значення рівне 0,2 мкм, а робочий фотошаблон з необхідним значенням слід отримувати методом відбору з декількох фотошаблонів. Ширина штриха лімба становить 8 В± 2 мкм, лімб і робочий фотошаблон виготовляються способом зворотного фотолітографії. У цьому випадку допуск для робочого фотошаблона В± 1,2 мкм;

4. Вимоги по дефектності геодезичних лімбів можна розділити на два види: дефекти елементів топології і дефекти, зумовлені класом чистоти.

Дефекти елементів топології визначаються кількістю допустимих розривів і потовщень і їх розмірів, які задаються в одиницях товщин елементів топології. p align="justify"> На штрихах допускається два розриву довжиною до 0,5 ширини штриха на обмеженій ділянці 2 В° 30 і потовщення або утоньшение довжиною до 1 ширини штриха і шириною до 0,5 ширини штриха на ділянці Вј його довжини з боку цифр. Для робочого фотошаблона ці вимоги посилюються: на весь фотошаблон можна допустити 1 розрив штриха довжиною в 1 ширину штриха і одне потовщення довжиною до 0,5 ширини штриха і шириною до 0,25 ширини штриха. Для фотошаблона-оригіналу можна також провести подальше посилення вимог, але технологічний процес термохімічної запису на плівках хрому з використанням...


Назад | сторінка 7 з 11 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Залежність ширини забороненої зони в кремнії від температури
  • Реферат на тему: Розрахунок збільшення опади від крену, просідання на мілководді і розрахуно ...
  • Реферат на тему: Допуски і посадки
  • Реферат на тему: Посадки і допуски
  • Реферат на тему: Допуски і посадки