Теми рефератів
> Реферати > Курсові роботи > Звіти з практики > Курсові проекти > Питання та відповіді > Ессе > Доклади > Учбові матеріали > Контрольні роботи > Методички > Лекції > Твори > Підручники > Статті Контакти
Реферати, твори, дипломи, практика » Курсовые обзорные » Підвищення технологічності друкованого вузла підсилювача на ОП

Реферат Підвищення технологічності друкованого вузла підсилювача на ОП





вання осі контактної площадки щодо осі координатної сітки на фотошаблон

? е = 0.01 мм - похибка розташування елементів при експонуванні на шарі

? п = 0.01 мм - похибка розташування базових отворів на фотошаблон


В В 

3. Мінімальний діаметр вікна фотошаблони для контактного майданчика:


В 
В 

- похибка діаметра контактної площадки при експонуванні фоторісунка

В 

4. Максимальний діаметр вікна фотошаблони для контактного майданчика:


В 

- похибка виготовлення фотошаблона 5. Максимальний діаметр КП:


В 

- похибка діаметра КП фотокопії при експонуванні малюнка

- товщина металевого резіста

В 

6. Мінімальна ширина провідників:


В 

мінімально ефективна ширина проводнікаф = 0,050 мм - товщина фольгіПМ = 0,005 мм - товщина попередньо обложеної міді = 0,02 мм - товщина металевого резіста

В 

7. Максимальна ширина провідників:

резистор друкований плата конструкторський

В 

- мінімальна ширина лінії на фотошаблонег = 0.05 мм - товщина нарощеної гальванічної міді

В 

- максимальна ширина лінії на фотошаблон

? tш = 0.03 мм - похибка виготовлення лінії фотошаблона

= 0,02 мм - товщина металевого резіста

? Е = 0.01 мм - похибка діаметра контактної площадки фотокопії при експонуванні малюнка

В 

8. Мінімальна відстань між провідником і контактної майданчиком:


В 

про = 2.5 мм - відстань між центрами аналізованих елементів

В 

? шt = 0,03 мм - похибка розташування провідника на фотошаблон

В В 

9. Мінімальна відстань між контактними майданчиками


В 

про = 2.5 мм - відстань між центрами аналізованих елементів

В В В 

10. Мінімальна відстань між двома провідниками:


В 

про = 2.5 мм - відстань між центрами аналізованих елементів

В 

? шt = 0.03 мм - похибка розташування провідника на фотошаблон

В 

11. Мінімальна відстань між провідником і КП на фотошаблон:


про = 2.5 мм - відстань між центрами аналізованих елементів.

В 

? шt = 0.03 мм - похибка розташування провідника на фотошаблон

В В В 

12. Мінімальна відстань між двома КП на фотошаблон:


В 

про = 2.5 мм - відстань між центрами аналізованих елементів

В В 

13. Мінімальна відстань між двома провідниками на фотошаблони:


В 

про = 2.5 мм - відст...


Назад | сторінка 9 з 22 | Наступна сторінка





Схожі реферати:

  • Реферат на тему: Похибка вимірювань
  • Реферат на тему: Похибка вимірювань
  • Реферат на тему: Абсолютна і відносна похибка
  • Реферат на тему: Мінімальна мозкова дисфункція як фактор соціально психологічної дезадаптаці ...
  • Реферат на тему: Теоретичні основи методу сіток. Побудова конечно-різницевої схеми. Похибк ...