ідбувається [39].
Отримані співвідношення свідчать про обмеженості застосування прийнятого в ряді робіт [27, 28] методу оцінки характеру просторового розподілу часток в потоці по товщині сформованого покриття. Лінійна залежність товщини покриття m від j n має місце тільки на пізніх стадіях і при протіканні на поверхні реакції полімеризації першого порядку. Важливим результатом даної моделі є також опис кінетики процесів постполімерізаціі, їх залежності від природи підкладки і її температури.
На підставі результатів моделювання представляється можливим визначити оптимальні умови і режими формування полімерних покриттів. З аналізу особливостей поведінки фрагментів на поверхні мішені випливає, що їх найбільш вірогідна участь у процесі полімеризації забезпечується лише при одночасному виконанні наступних умов: час життя в адсорбованому стані П„ а має бути більше (або дорівнює) часу захоплення фрагмента зростаючим активним центром П„ ц (П„ а > П„ ц ); П„ ц <П„ п (П„ п - час між актами надходження частинок з газової фази на дану ділянку поверхні). За умови розподілу вільних від центрів зростання майданчиків за законом Пуассона можна отримати, що П„ ц = 0,12/n р D (n р - щільність ядер полімеризації). З урахуванням даного співвідношення отриманий інтервал оптимальних густин потоку фрагментів, при осадженні яких на поверхні формується найбільш високомолекулярна покриття [38, 40]. На підставі даних результатів визначено оптимальні значення С? п при різних значеннях температури підкладки, оцінений вплив С? п і температури поверхні на молекулярну масу утворюється покриттів.
3. Розмірні ефекти в тонких полімерних покриттях, формованих з активної газової фази
Експериментальні дослідження структури і властивостей полімерних покриттів, обложених з активної газової фази, вказують на складний характер їх залежності, насамперед, від товщини шару. Це пов'язано з особливостями формування таких систем, впливом твердої поверхні підкладки на структурний стан тонких полімерних покриттів.
Основною характерною особливістю методу осадження з активної газової фази, на відміну від часто застосовуються методів формування покриттів з розплавів або розчинів полімерів, є протікання вторинної полімеризації в процесі формування шару. Відзначимо також, що полімерні покриття осаджуються з активної газової фази в нерівноважних умовах, і, особливо на початкових стадіях, характеризуються відносно високим внеском поверхневої енергії в повну енергію тонкопленочной системи. Ці обставини визначають протікання різного роду релаксаційних процесів, в тому числі і структурних. У результаті спостерігається висока нестабільність фізико-хімічних властивостей покриттів, що залежить в значній мірі від умов і технологічних параметрів процесу плен...
